特許
J-GLOBAL ID：200903042430505106
吐出ノズル式塗布法用ポジ型ホトレジスト組成物及びレジストパターンの形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
棚井 澄雄
, 志賀 正武
, 青山 正和
, 鈴木 三義
, 柳井 則子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-102048
公開番号（公開出願番号）：特開2004-309720
出願日： 2003年04月04日
公開日（公表日）： 2004年11月04日
要約：
【課題】吐出ノズル式によるレジスト塗布法に好適に用いることができるポジ型ホトレジスト組成物を提供する。【解決手段】吐出ノズルと基板とを相対的に移動させることによって基板の塗布面全面にポジ型ホトレジスト組成物を塗布する工程を有する吐出ノズル式塗布法に用いられるポジ型ホトレジスト組成物であって、(A)ポリスチレン換算質量平均分子量(Mw)が6000以上のアルカリ可溶性ノボラック樹脂、(C)ナフトキノンジアジド基含有化合物、および(D)有機溶剤を含有してなることを特徴とする吐出ノズル式塗布法用ポジ型ホトレジスト組成物。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
吐出ノズルと基板とを相対的に移動させることによって基板の塗布面全面にポジ型ホトレジスト組成物を塗布する工程を有する吐出ノズル式塗布法に用いられるポジ型ホトレジスト組成物であって、(A)ポリスチレン換算質量平均分子量(Mw)が6000以上のアルカリ可溶性ノボラック樹脂、(C)ナフトキノンジアジド基含有化合物、および(D)有機溶剤を含有してなることを特徴とする吐出ノズル式塗布法用ポジ型ホトレジスト組成物。
IPC (6件)：
G03F7/023
, B05D1/26
, B05D1/40
, G03F7/004
, G03F7/022
, G03F7/16
G03F7/023 511
, B05D1/26 Z
, B05D1/40 A
, G03F7/004 501
, G03F7/022
, G03F7/16
2H025AB17
, 2H025AC01
, 2H025AD03
, 2H025BE01
, 2H025CB29
, 2H025CB55
, 2H025CC03
, 2H025CC20
, 2H025EA04
, 2H025FA03
, 2H025FA17
, 4D075AC06
, 4D075AC64
, 4D075CA48
, 4D075DA06
, 4D075DB13
, 4D075DC24
, 4D075EA07
, 4D075EA45
, 4D075EB32
, 4D075EB52
, 4D075EB56
, 4D075EC07
, 4D075EC54
