特許
J-GLOBAL ID：200903030298211191

ポジ型ホトレジスト塗布液及びそれを用いた表示素子用基材

発明者：
加藤 哲也

加藤 哲也 について

, 
青木 知三郎

青木 知三郎 について


出願人/特許権者：
東京応化工業株式会社

東京応化工業株式会社 について


代理人 (1件)： 阿形 明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-280766
公開番号（公開出願番号）：特開2000-112120
出願日： 1998年10月02日
公開日（公表日）： 2000年04月21日
要約：
【要約】【課題】 基板全体にわたって均一な膜厚の塗膜形成が可能であるとともに、粒子の発生がなく、保存安定性に優れる非化学増幅型のポジ型ホトレジスト塗布液、及び表示素子用基材を提供する。【解決手段】 (A)アルカリ可溶性樹脂及び(B)キノンジアジド基含有化合物を、(C)プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート又は3-メトキシプロピオン酸メチル60〜98重量%とγ-ブチロラクトン40〜2重量%との混合溶剤に溶解して、非化学増幅型のポジ型ホトレジスト塗布液とするとともに、この塗布液の塗膜をガラス角基板上に形成させて表示素子用基材とする。
請求項（抜粋）：
(A)アルカリ可溶性樹脂及び(B)キノンジアジド基含有化合物を、(C)有機溶剤に溶解してなる非化学増幅型のポジ型ホトレジスト塗布液において、(C)成分として、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート又は3-メトキシプロピオン酸メチル60〜98重量%とγ-ブチロラクトン40〜2重量%との混合溶剤を用いることを特徴とするポジ型ホトレジスト塗布液。
IPC (3件)：
G03F 7/022 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 504
FI (3件)：
G03F 7/022 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 504
Fターム (12件)：
2H025AA00 ,  2H025AB17 ,  2H025AC01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE01 ,  2H025CB29 ,  2H025CB52 ,  2H025CC03 ,  2H025CC04 ,  2H025DA18 ,  2H025FA03 ,  2H025FA17
引用特許：
審査官引用 (6件)
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