較正方法、較正基板、リソグラフィ装置およびデバイス製造方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：浅村皓 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-100901
公開番号（公開出願番号）：特開2003-297743
出願日： 2003年02月27日
公開日（公表日）： 2003年10月17日
要約：

【要約】【課題】リソグラフィ投影装置で基板の表裏両面に回路パターンのあるデバイスを作る場合に使う、両面のパターンを整列させる整列システムを必要な整列精度に較正するための方法を提供すること。【解決手段】この構成手順は、対向する側に基準マーカWM1、WM3を有すし、整列ビームに透明な較正基板HWを使う。表側の基準マーカWM3の位置を通常の方法で決め、次に裏側の基準マーカWM1の位置を、この較正基板HWを通らせる整列ビームによって決める。しかし、マーカWM3に関するマーカWM1の焦点位置のシフトを補償するために、平面板50を、マーカWM1が較正基板HWの前の平面にあるかのように見えるように、較正基板HWの上に置く。この様に、この発明は直接的で容易に理解できる手順を提供する。

請求項（抜粋）：

基板の対向する側にある整列マーカへ整列できる整列システムを較正する方法であって、前記整列システムが放射線の整列ビームを直接一つの側に向け且つ前記整列ビームを追加の光学システムを介して他の側に向け、前記方法が:第1および第2の対向する面を有し且つ前記整列ビームの放射線に透明な較正基板を用意し、前記較正基板がその第1面に基準マーカを有し、前記基準マーカが前記第1および第2面の両方から検出可能である工程;前記第1面に向けられた前記整列ビームで前記基準マーカへの第1整列を行う工程;および前記整列システムの焦点位置が前記第1マーカの位置へ変位するように前記整列ビームに平面板を介在させながら、前記記第2面に向けられ且つ上記第1面を通って伝播する前記整列ビームで前記基準マーカへの第2整列を行う工程を含み;前記第1および第2整列をどんな順序で行ってもよい方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 9/02

FI (2件)：

G03F 9/02 H , H01L 21/30 531 J

Fターム (1件)：

5F046GA18

引用特許：

出願人引用 (10件)

露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-125699 出願人：株式会社ニコン
マスクとワークとの位置合わせ装置およびそれを使用した位置合わせ方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-195604 出願人：ウシオ電機株式会社
特開昭52-054379

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審査官引用 (6件)

露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-125699 出願人：株式会社ニコン
マスクとワークとの位置合わせ装置およびそれを使用した位置合わせ方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-195604 出願人：ウシオ電機株式会社
特開昭52-054379

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