特許
J-GLOBAL ID：200903042507343414
多重環構造のエーテルモノマー及びポリマー、並びにこれより得られる感光性ポリマー及びレジスト組成物
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
志賀 正武
, 渡邊 隆
, 村山 靖彦
, 実広 信哉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-344985
公開番号（公開出願番号）：特開2005-163042
出願日： 2004年11月29日
公開日（公表日）： 2005年06月23日
要約：
【課題】 少なくとも1つの多重環構造のアルケニルエーテル及び少なくとも1つのα-フッ化アクリレートを含み、ラジカル(陽イオン性)重合によって感光性ポリマー及びフォトレジスト組成物の製造に適する多様なモノマーを提供する。【解決手段】 ドライエッチング工程で許容可能な耐性を提供し、微細なフォトレジストパターンを形成するためのフォトリソグラフィ工程において、KrFエキシマーレーザー、ArFエキシマーレーザー、またはF2エキシマーレーザーのように多様な光源の使用に適した光透過度を提供するフォトレジスト組成物。多重環構造のアルケニルエーテル及びα-フッ化アクリレートの他に、1つまたはその以上の環状の脂環式及びヘテロサイクル化合物として置換または非置換の構造、特にジヒドロピランを含む追加のモノマーが結合されうる感光性ポリマー。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
次の式Iを有するアルケニルエーテルモノマー及びα-フッ化アクリレートモノマーを含む感光性コポリマー;
IPC (3件)：
C08F234/02
, C08F220/22
, G03F7/039
C08F234/02
, C08F220/22
, G03F7/039 601
2H025AA09
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BE07
, 2H025BE10
, 2H025BG00
, 2H025CB08
, 2H025CB14
, 2H025CB41
, 2H025CB45
, 2H025CB55
, 2H025CB56
, 2H025CC04
, 2H025CC20
, 2H025FA10
, 2H025FA17
, 4J100AL26Q
, 4J100AR32P
, 4J100BA03P
, 4J100BA20P
, 4J100BA22P
, 4J100BB18P
, 4J100BC12Q
, 4J100CA04
, 4J100CA05
, 4J100CA06
, 4J100DA01
, 4J100DA04
, 4J100JA38
