化学増幅レジスト用コポリマー

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：坂口博 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-050104
公開番号（公開出願番号）：特開2003-292542
出願日： 2003年02月26日
公開日（公表日）： 2003年10月15日
要約：

【要約】【課題】リソグラフィ用フォトレジスト組成物、特に化学増幅フォトレジストで使用するためのコポリマーを提供すること。【解決手段】好ましい実施形態において、コポリマーは、遠紫外線、すなわち157nm、193nmおよび248nmを含む、250nmより短い波長の放射線に対して実質的に透明であり、また感応性および解像度が向上している。一実施形態において、コポリマーは、α-シアノ-またはα-トリフルオロ-メタクリレートモノマー単位とビニルエーテルモノマー単位からなる。フッ素化コポリマーを含むリソグラフィ用フォトレジスト組成物もまた、基板上にレジスト像を形成するために、すなわち集積回路の製造などにおいて前記組成物を用いるプロセスが提供されると同様、提供される。

請求項（抜粋）：

式(I)の構造を有し、【化1】前式において、R1が、H、F、CN、CH3、またはC1〜6フルオロアルキルであり、R2aおよびR2bが、独立に、HまたはFであり、またR3が、CNまたはCOORであって、RはH、C1〜12アルキルおよびC1〜12フルオロアルキルからなる群から選択されるか、あるいはR3を酸開裂性とするように選択される第1のモノマー、ならびに式(II)の構造を有し、【化2】前式において、R4が、H、C1〜12アルキル、C3〜15脂環式基、またはフッ素化C3〜15脂環式基であり、R5が、C1〜12アルキル、1〜12個のフッ素原子および0〜2個のヒドロキシ基で置換されたC1〜12アルキル、またはC3〜15脂環式基であるか、あるいはR4およびR5が全体として5、6、または7員環を形成し、R6が、H、C1〜12アルキル、またはC1〜12フルオロアルキルであるか、あるいはR4およびR6が全体として5、6、または7員環を形成し、またR7が、H、C1〜12アルキル、またはC1〜12フルオロアルキルであるか、あるいはR7およびR5が全体として-X-(CR8R9)n-を表し、この場合、R4およびR6はHであり、XはOまたはCH2であり、nは1または2であり、R8およびR9は、H、C1〜12アルキル、またはC1〜12フルオロアルキルであるか、あるいは全体としてオキソ部分(=O)を形成し、R8およびR9が全体として=Oを形成する場合、nが1である第2のモノマーとの共重合により調製されるコポリマーであって、R1、R3、R4、R5、R6、およびR7の何れも、水素以外の不活性な置換基でさらに置換されていてもよいコポリマー。

IPC (7件)：

C08F220/10 , C08F216/16 , C08F220/44 , C08F232/04 , G03F 7/038 601 , G03F 7/039 601 , H01L 21/027

FI (7件)：

C08F220/10 , C08F216/16 , C08F220/44 , C08F232/04 , G03F 7/038 601 , G03F 7/039 601 , H01L 21/30 502 R

Fターム (39件)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD01 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB08 , 2H025CB14 , 2H025CB41 , 2H025CC17 , 2H025FA17 , 4J100AE02R , 4J100AE09R , 4J100AE26R , 4J100AE29R , 4J100AE32R , 4J100AL03Q , 4J100AL08Q , 4J100AM02P , 4J100AM03P , 4J100AR03S , 4J100AR32S , 4J100BA03R , 4J100BA40P , 4J100BA40Q , 4J100BB07P , 4J100BB07Q , 4J100BB07R , 4J100BC02R , 4J100BC53S , 4J100BC58S , 4J100CA03 , 4J100CA04 , 4J100DA39 , 4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (4件)

ポジ型レジスト組成物およびパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-338701 出願人：セントラル硝子株式会社
含フッ素共重合体を用いたポジ型レジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-010909 出願人：セントラル硝子株式会社
含フッ素アクリレート誘導体とその製造法、およびそれを用いた高分子化合物
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-226582 出願人：セントラル硝子株式会社

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