特許
J-GLOBAL ID:200903042563937971
強磁性トンネル効果膜を用いた磁気抵抗効果素子及びその製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
若林 忠
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-246133
公開番号(公開出願番号):特開平10-093159
出願日: 1996年09月18日
公開日(公表日): 1998年04月10日
要約:
【要約】【課題】上部強磁性体層/トンネルバリア層/下部強磁性体層からなる多層構造を基板上に有し、強磁性トンネル効果を利用した磁気抵抗効果素子において、トンネルバリアに発生するピンホールを減らし、より大きな磁気抵抗変化率が得られるようにする。【解決手段】基板1上に、下部強磁性体層2と、上部強磁性体層3と、下部強磁性体層2と上部強磁性体層4に挟まれトンネルバリア層を含む非磁性体層3と、下部強磁性体層2に接触する下部電極6と、上部強磁性体層4に接触しかつ下部電極6とは電気的に絶縁されている上部電極7とを有する磁気抵抗効果素子において、下部強磁性体層2の上面側で下部電極6と下部強磁性体層2とを接触させることにより、非磁性体層3と下部強磁性体層2との接合領域の直下の領域において基板1に下部強磁性体層2が直接接した構造を有するようにする。
請求項(抜粋):
基板と、前記基板上に形成された下部強磁性体層と、上部強磁性体層と、前記下部強磁性体層と前記上部強磁性体層に挟まれトンネルバリアを含む非磁性体層と、前記下部強磁性体層に接触する下部電極と、前記上部強磁性体層に接触しかつ前記下部電極とは電気的に絶縁されている上部電極と、からなる強磁性トンネル効果膜を用いた磁気抵抗効果素子において、前記非磁性体層と前記下部強磁性体層との接合領域の直下の領域において前記基板に前記下部強磁性体層が直接接した構造を有することを特徴とする磁気抵抗効果素子。
IPC (3件):
H01L 43/08
, G11B 5/39
, H01L 43/12
FI (3件):
H01L 43/08 Z
, G11B 5/39
, H01L 43/12
引用特許:
審査官引用 (5件)
-
磁気抵抗複合素子
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-244448
出願人:三菱マテリアル株式会社
-
磁気抵抗素子
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-186807
出願人:三菱マテリアル株式会社
-
磁気抵抗素子
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-205394
出願人:三菱マテリアル株式会社
全件表示
前のページに戻る