特許

J-GLOBAL ID：200903042630255686

感光性樹脂組成物およびレジスト像の製造法

発明者： 加藤 幸治 ,  橋本 政弘 ,  橋本 通晰 ,  逆水 登志夫 ,  白石 洋
出願人/特許権者： 日立化成工業株式会社 ,  株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 若林 邦彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-247656
公開番号（公開出願番号）：特開平8-110638
出願日： 1994年10月13日
公開日（公表日）： 1996年04月30日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 半導体装置の製造において、工業的に有利なアルカリ水溶液で現像する工程により、高感度、高解像度、かつ安定性の良いポジ型パタンを現出させる感光性樹脂組成物およびこれを用いたレジスト像の製造法を提供する。【構成】 活性化学線の照射により酸を生じる化合物及び酸触媒反応によりアルカリ水溶液に対し溶解性を変化させる反応性を有する媒体からなる化学増幅系感光性樹脂組成物であって、一般式(1)または一般式(2)で示されるイオン解離性の化合物を含有してなる感光性樹脂組成物およびこの組成物を用いたレジスト像の製造法。(式中、R1、R2、R3及びR4は水素、炭素数1〜7のアルキル基またはアリール基で、少なくともその1つは水素であり、Y1は塩素、臭素等、を表す)(式中、R5、R6及びR7は水素、炭素数1〜7のアルキル基またはアリール基で、Y2は塩素、臭素等、を表す)

請求項（抜粋）：

活性化学線の照射により酸を生じる化合物および酸触媒反応によりアルカリ水溶液に対し溶解性を変化させる反応性を有する媒体を含む化学増幅系感光性樹脂組成物であって、一般式(1)で示されるイオン解離性の化合物または一般式(2)で示されるイオン解離性の化合物を含有してなる感光性樹脂組成物。【化1】(式中、R1、R2、R3及びR4は水素、炭素数1〜7のアルキル基またはアリール基で、少なくともR1、R2、R3及びR4の1つは水素であり、Y1は塩素、臭素、ヨウ素、水酸基、炭素数1〜7のカルボナート基または炭素数1〜7のスルホナート基を表す)【化2】(式中R5、R6及びR7は水素、炭素数1〜7のアルキル基またはアリール基で、Y2は塩素、臭素、ヨウ素、水酸基または炭素数1〜7のカルボナート基を表す)

IPC (4件)：

G03F 7/004 503 ,  G03F 7/038 505 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (6件)

• レジスト材料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-285775   出願人：日本電気株式会社
• ポジ型放射感応性混合物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-025751   出願人：ヘキストジャパン株式会社
• ポジ型放射感応性混合物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-025753   出願人：ヘキストジャパン株式会社
• 感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-150243   出願人：株式会社東芝
• 感放射線性混合物およびそれを用いるレリーフ構造体の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-026495   出願人：ビーエーエスエフアクチェンゲゼルシャフト
• 特開平4-051243