レーザ蒸着法による薄膜の形成方法、およびその方法に使用するレーザ蒸着装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：岡田和秀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-050426
公開番号（公開出願番号）：特開平11-246965
出願日： 1998年03月03日
公開日（公表日）： 1999年09月14日
要約：

【要約】【課題】大面積かつ膜特性が均一な高品質の薄膜をレーザ蒸着法を用いて成膜する。【解決手段】気密チャンバ4内において、ターゲットホルダ6をターゲット2がレーザ光3の光軸上に位置するように配置するとともに、光軸方向に沿って移動可能に設ける。また、基板ホルダ5は、基板1がレーザ光3の光軸に対して平行な平面上に位置するように配置する。レーザ光3をターゲット2に集光するための集光レンズ8、ターゲット2上でのレーザ光の口径がターゲット2の位置にかかわらず一定となるようにターゲット2と連動するように構成する。基板ホルダ5は、成膜中、成膜面内で回転可能または成膜面内の任意の方向に平行移動可能となるように構成する。

請求項（抜粋）：

ターゲットにレーザ光を照射して、基板上に薄膜を堆積させる方法であって、ターゲットをレーザ光の光軸上に配置するとともに、光軸に沿って移動させることで基板上に成膜を行うことを特徴とする薄膜の形成方法。

引用特許：

審査官引用 (6件)

成膜装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-181245 出願人：浜松ホトニクス株式会社
特開平4-187761
レーザ・スパッタリング装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-052535 出願人：松下電器産業株式会社

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