微小構造の加工方法、該加工法を用いて作製した微小素子の作製方法、微小素子

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：長尾達也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-148641
公開番号（公開出願番号）：特開2004-356134
出願日： 2003年05月27日
公開日（公表日）： 2004年12月16日
要約：

【課題】フォトリソグラフィ等のような複雑なプロセスを必要とせず、単純なプロセスによって微小な構造の加工が可能となる微小構造の加工方法、該加工法を用いて作製した微小素子の作製方法、微小素子を提供する。【解決手段】微小構造を加工するに際して、照射する光波長よりも小さい変調形状を有する型構造101に光102を照射し、該型構造の表面にその変調形状を反映した近接場光の分布103を形成し、該近接場光の分布の形成された周囲の空間に、原料ガスを満たして光化学反応を起こさせ、該型構造の表面に該光化学反応によって微小構造105を形成する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

照射する光波長よりも小さい変調形状を有する型構造に光を入射させ、該型構造の表面にその変調形状を反映した近接場光の分布を形成する工程と、前記型構造における前記近接場光の分布の形成された周囲の空間に、原料ガスを満たして光化学反応を起こさせ、該型構造の表面に該光化学反応によって微小構造を形成する工程と、を有することを特徴とする微小構造の加工方法。

IPC (4件)：

H01L21/027 , B81C5/00 , C23C16/48 , H01L21/205

FI (4件)：

H01L21/30 502D , B81C5/00 , C23C16/48 , H01L21/205

Fターム (18件)：

4K030AA02 , 4K030AA04 , 4K030AA06 , 4K030AA07 , 4K030AA08 , 4K030AA11 , 4K030AA12 , 4K030AA14 , 4K030BB14 , 4K030CA06 , 4K030CA07 , 4K030FA06 , 4K030LA00 , 4K030LA15 , 5F045AA11 , 5F045DA56 , 5F046AA28 , 5F046BA10

引用特許：

審査官引用 (4件)

プローブアレイ及びプローブアレイの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-326169 出願人：財団法人神奈川科学技術アカデミー, 株式会社リコー
光化学気相堆積法用プローブ及びその製造方法、並びに光化学気相堆積装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-169459 出願人：科学技術振興事業団
微小パターンの作製方法及び作製装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-193791 出願人：キヤノン株式会社

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