特許

J-GLOBAL ID：200903043066775840

極端紫外線露光用マスクブランク、極端紫外線露光用マスク、極端紫外線露光用マスクの製造方法及び極端紫外線露光用マスクを用いたパターン転写方法

発明者： 松尾 正
出願人/特許権者： 凸版印刷株式会社
代理人 (1件)： 特許業務法人高橋・林アンドパートナーズ
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-046770
公開番号（公開出願番号）：特開2009-206287
出願日： 2008年02月27日
公開日（公表日）： 2009年09月10日
要約：

【課題】反射率の選択性の広さ(自由度)と、洗浄液耐性の高さを持つと同時に、射影効果を低減するように、吸収膜(ハーフトーン膜)の材料が選定された極端紫外線露光用マスクブランク、極端紫外線露光用マスク、極端紫外線露光用マスクの製造方法及び極端紫外線露光用マスクを用いたパターン転写方法を提供すること。【解決手段】基板と、基板上に形成された高反射部と、高反射部上に形成された低反射部と、を備え、低反射部は、Ta(タンタル)とRu(ルテニウム)と、を有することを特徴とする極端紫外線露光用マスクブランク。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

基板と、 前記基板上に形成された高反射部と、 前記高反射部上に形成された低反射部と、を備え、 前記低反射部は、Ta(タンタル)とRu(ルテニウム)と、 を有することを特徴とする極端紫外線露光用マスクブランク。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20

FI (2件)：

H01L21/30 531M ,  G03F7/20 521

Fターム (4件)：

5F046GA03 ,  5F046GA04 ,  5F046GB01 ,  5F046GD03

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 極端紫外線露光用マスク、マスクブランク、及び露光方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-037103   出願人：凸版印刷株式会社

審査官引用 (4件)

• 極限紫外線露光用マスクブランク及びマスク並びに転写方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-074000   出願人：凸版印刷株式会社
• 極限紫外線露光用マスク及びブランク並びにパターン転写方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-376713   出願人：凸版印刷株式会社
• EUVリソグラフィ用反射型マスクブランク
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2007-036904   出願人：旭硝子株式会社
• 極端紫外線露光用マスク、マスクブランク、及び露光方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-037103   出願人：凸版印刷株式会社