特許
J-GLOBAL ID:200903043157598232

成長基板の除去により製造される共振キャビティIII族窒化物発光装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 熊倉 禎男 ,  大塚 文昭 ,  今城 俊夫 ,  西島 孝喜
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-160075
公開番号(公開出願番号):特開2005-347747
出願日: 2005年05月31日
公開日(公表日): 2005年12月15日
要約:
【課題】 成長基板を除去することにより製造された共振キャビティIII族窒化物発光装置を提供すること。【解決手段】 半導体発光装置は、n型領域と、p型領域と、該n型領域およびp型領域の間に配置された発光領域とを含んでいる。n型領域、p型領域および発光領域は、頂面および底面を有するキャビティを形成する。該キャビティの頂面および底面は、粗い表面を有してよい。例えば、該表面は複数の谷によって分離された複数のピークを有している。幾つかの実施形態においは、当該装置にエッチング停止層を組込み、次いで該エッチング停止層上で停止するプロセスによって、当該装置の層を薄膜化することにより、前記キャビティの厚さは一定に維持される。【選択図】 図18
請求項(抜粋):
III族窒化物発光装置であって: n型領域と; p型領域と; 前記n型領域およびp型領域の間に配置された発光領域と を具備してなり、 前記n型領域、p型領域および発光領域がキャビティを形成し、該キャビティは頂面および底面を有し、該頂面および該底面の各々が、複数の谷によって分離された複数のピークを含んでなる装置。
IPC (1件):
H01S5/183
FI (1件):
H01S5/183
Fターム (20件):
5F173AC03 ,  5F173AC13 ,  5F173AC14 ,  5F173AC15 ,  5F173AC52 ,  5F173AC61 ,  5F173AC63 ,  5F173AF72 ,  5F173AG05 ,  5F173AG12 ,  5F173AH22 ,  5F173AH44 ,  5F173AP23 ,  5F173AP32 ,  5F173AP35 ,  5F173AQ02 ,  5F173AQ03 ,  5F173AQ05 ,  5F173AR23 ,  5F173AR52
引用特許:
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (5件)
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