特許
J-GLOBAL ID：200903043277439561
曲面を有する半導体デバイスに露光する装置および方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-566395
公開番号（公開出願番号）：特表2006-513569
出願日： 2003年01月09日
公開日（公表日）： 2006年04月20日
要約：
半導体を製造するステーションは、球面半導体デバイスまたはボール(52)の表面領域(84)上に露光させる。マスクパターンジェネレータ (56)は集合的に像を表示するために、一時的変更を受ける光のパターンを与える。マスクパターンジェネレータは、全体像の部分を提供する能動露光輪郭(80)を有する。半導体デバイスの表面領域に、光のパターンがレンズ(62)で導かれる。半導体デバイスは、半導体デバイスの表面領域の部分上に光のパターンを露光させるために、光のパターンの一時的変更に応じて回転する。露光輪郭は、より狭い中心を有して、中心から離れるにつれて広くなる。そのようにして露光輪郭は、湾曲を有することができる。
請求項（抜粋）：
曲率を有する物体の表面上に露光させるための光装置であって、集合的に像を表示するために一時的変更を受ける光のパターンを提供するためのマスクと、物体上の光のパターンを集中させるために配置されるレンズと、物体の表面領域上に光のパターンを露光させるために、光のパターンの一時的変更に応じて物体を回転させるための物体に連結する軸を有するモータとを含む露光装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/30 514B
, G03F7/24 H
5F046BA05
, 5F046BA06
, 5F046CA02
, 5F046CB18
, 5F046CC08
, 5F046CC13
, 5F046CD01
