特許
J-GLOBAL ID：200903081014694043

露光装置及び半導体装置の製造方法

発明者：
武内 顕一

武内 顕一 について


出願人/特許権者：
宮崎沖電気株式会社

宮崎沖電気株式会社 について

, 
沖電気工業株式会社

沖電気工業株式会社 について


代理人 (1件)： 大西 健治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-107456
公開番号（公開出願番号）：特開2000-299274
出願日： 1999年04月15日
公開日（公表日）： 2000年10月24日
要約：
【要約】【解決手段】 本発明は、照明光学系からの光を絞って細長いスリット光とするスリットと、転写パターンを有し、スリット光を受け取り転写パターンに対応した光にするマスクを、光軸と垂直方向に移動自在に支持するマスクステージと、マスクからの光を縮小する縮小投影レンズと、縮小投影レンズからの光を拡張するビームエキスパンダと、ビームエキスパンダからの光を半導体球上に集光させる集光ミラーと、半導体球を回転可能に支持する手段とを有することを特徴とする。【効果】 本発明では、シリコン球に対するミラーの位置決めが容易となる。また転写パターンを連続的に形成できるので、ICを微細化する上で利点が高い露光装置を提供できる。
請求項（抜粋）：
照明光学系からの光を絞って細長いスリット光とするスリットと、転写パターンを有し、前記スリット光を受け取り前記転写パターンに対応した光にするマスクを、光軸と垂直方向に移動自在に支持するマスクステージと、前記マスクからの光を縮小する縮小投影レンズと、前記縮小投影レンズからの光を拡張するビームエキスパンダと、前記ビームエキスパンダからの光を半導体球上に集光させる集光ミラーと、前記半導体球を回転可能に支持する手段とを有する露光装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/24
FI (2件)：
H01L 21/30 514 C ,  G03F 7/24 H
Fターム (13件)：
5F046BA04 ,  5F046BA05 ,  5F046CB02 ,  5F046CB03 ,  5F046CB05 ,  5F046CB12 ,  5F046CB23 ,  5F046CB27 ,  5F046CC01 ,  5F046CC03 ,  5F046CC13 ,  5F046CC15 ,  5F046CC20
引用特許：
審査官引用 (7件)
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