特許
J-GLOBAL ID:200903043350248508

熱処理装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 荒船 博司 ,  荒船 良男
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-338469
公開番号(公開出願番号):特開2005-108557
出願日: 2003年09月29日
公開日(公表日): 2005年04月21日
要約:
【課題】構成の簡略化と改質器の炉内の熱損失の低減を実現でき、且つ温度測定精度を高めた熱処理装置を提供する。【解決手段】熱処理装置は、化学反応器の流路内の被熱処理原料を加熱する発熱抵抗体47を備え、前記発熱抵抗体の発熱層47aの下面に、前記発熱層の発熱に伴う拡散を防止する拡散防止層47bと、前記拡散防止層と前記基板41表面との間に密着強度を高めるための密着層47cとを備える。なお前記発熱層を構成する物質にAu、前記拡散防止層を構成する物質にWを含むことが好ましい。【選択図】図5
請求項(抜粋):
化学反応器の流路内の被熱処理原料を加熱する発熱抵抗体を備える熱処理装置において、 前記発熱抵抗体の発熱層の下面に、前記発熱層の発熱に伴う拡散を防止する拡散防止層と、前記拡散防止層と前記基板表面との間に密着強度を高めるための密着層とを備えることを特徴とする熱処理装置。
IPC (1件):
H01M8/06
FI (1件):
H01M8/06 G
Fターム (3件):
5H027AA02 ,  5H027BA01 ,  5H027BA17
引用特許:
出願人引用 (1件)
  • 微小化学用デバイス
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2001-312435   出願人:スターライト工業株式会社
審査官引用 (5件)
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