特許

J-GLOBAL ID：200903043530492571

サブ200nm用フォトレジスト組成物のためのアクリル化合物並びにその作製及び使用方法

発明者： アテイ ハウゼイン アブドウラザク ,  トーマス ジョン マークレイ
出願人/特許権者： エア プロダクツ アンド ケミカルズ インコーポレイテッド
代理人 (5件)： 青木 篤 ,  石田 敬 ,  古賀 哲次 ,  永坂 友康 ,  西山 雅也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-043199
公開番号（公開出願番号）：特開2004-250708
出願日： 2004年02月19日
公開日（公表日）： 2004年09月09日
要約：

【課題】 サブ200nmの波長で透過するモノマーから重合された樹脂を提供すること。【解決手段】 ポリマーを提供するためにそれ自体で、又は少なくとも1つの他のエチレン不飽和モノマーと重合することができるアクリル化合物が本明細書で開示される。該ポリマーは、例えばサブ200nm用フォトレジストの中で用いることができる。さらに、原料のトリフルオロアセトンから本発明のアクリル化合物を作製する方法が開示される。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

化学式

IPC (4件)：

C08F20/28 ,  C07D309/10 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

FI (4件)：

C08F20/28 ,  C07D309/10 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R

Fターム (38件)：

2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BE08 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025BJ10 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  4C062AA04 ,  4C062AA16 ,  4C062AA18 ,  4J100AA02Q ,  4J100AB02Q ,  4J100AB03Q ,  4J100AB07Q ,  4J100AB08Q ,  4J100AB09Q ,  4J100AJ02Q ,  4J100AJ08Q ,  4J100AJ09Q ,  4J100AL03Q ,  4J100AL04Q ,  4J100AL08P ,  4J100AL09Q ,  4J100AM02Q ,  4J100AM17Q ,  4J100AR11Q ,  4J100AS02Q ,  4J100AS03Q ,  4J100BA03Q ,  4J100BC53P ,  4J100CA04 ,  4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (4件)

• ラクトン系共重合樹脂および感放射線性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-054883   出願人：ジェイエスアール株式会社
• 高分子化合物、化学増幅レジスト材料及びパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-383217   出願人：信越化学工業株式会社, 松下電器産業株式会社, セントラル硝子株式会社
• 感光性組成物及びパタ-ン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-070591   出願人：株式会社東芝
• レジスト材料及び使用法
  公報種別：公表公報   出願番号：特願平3-507745   出願人：イー・アイ・デユポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー, アメリカン・テレフオン・アンド・テレグラフ・カンパニー

引用文献：

審査官引用 (2件)

• Trifluoromethylated Butadienes
• Trifluoromethylated Butadienes