パターン検査装置、画像表示装置、パターン検査方法およびプログラム

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：松阪正弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-209208
公開番号（公開出願番号）：特開2004-053337
出願日： 2002年07月18日
公開日（公表日）： 2004年02月19日
要約：

【課題】欠陥を適切に検出する検査装置を提供する。【解決手段】検査装置は、基板を撮像する撮像部2、撮像部2から画像信号が入力される検査出力部4およびコンピュータ5を有する。検査出力部4の画像メモリ41は撮像部2が取得した被検査画像を記憶し、コンピュータ5において、画素値の変換に利用されるLUTが画素値変換曲線に基づいて作成される。画素値変換曲線は、画像内の2つの領域の画素値の代表値にて極大および極小となる連続曲線とされ、画素値のばらつきの大きい領域の代表値における広がり角が他の領域の代表値における広がり角よりも大きくされる。被検査画像の画素値と対応する参照画像の画素値がそれぞれ画素値変換部44a,44bに入力されて変換され、比較検査部45において変換後の被検査画像の画素値と変換後の参照画像の画素値とが比較されて欠陥判定が行われる。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

第1の領域と前記第1の領域と比べて画素値のばらつきが大きい第2の領域とを有する対象物上のパターンの検査を行うパターン検査装置であって、対象物を撮像して多階調の被検査画像のデータを取得する撮像部と、参照画像のデータを記憶する記憶部と、被検査画像または参照画像に基づいて第1の領域および第2の領域の画素値の代表値をそれぞれ算出し、前記被検査画像および前記参照画像の各画素の値を、前記代表値に基づく変換曲線を用いて変換する画素値変換手段と、変換後の被検査画像の各画素の値と変換後の参照画像の対応する画素の値とを比較することにより前記各画素の判定を行う判定手段と、を備え、前記画素値変換手段における変換曲線が、2つの代表値において極大および極小となる連続曲線であり、第2の領域の代表値における前記変換曲線の広がり角が第1の領域の代表値における広がり角よりも大きいことを特徴とするパターン検査装置。

IPC (5件)：

G01N21/956 , G06T1/00 , G06T7/00 , H01L21/66 , H05K3/00

FI (5件)：

G01N21/956 Z , G06T1/00 305A , G06T7/00 300E , H01L21/66 J , H05K3/00 Q

Fターム (40件)：

2G051AA51 , 2G051AA56 , 2G051AA65 , 2G051AC21 , 2G051CA04 , 2G051DA05 , 2G051EA04 , 2G051EA08 , 2G051EB01 , 2G051EC02 , 2G051ED07 , 4M106AA01 , 4M106CA39 , 4M106DB04 , 4M106DJ04 , 4M106DJ11 , 4M106DJ18 , 4M106DJ20 , 4M106DJ21 , 4M106DJ23 , 5B057AA03 , 5B057CA08 , 5B057CA12 , 5B057CA16 , 5B057CC02 , 5B057CE03 , 5B057CE11 , 5B057CH07 , 5B057DA03 , 5B057DB02 , 5B057DB09 , 5B057DC23 , 5B057DC32 , 5L096AA06 , 5L096BA03 , 5L096EA12 , 5L096FA33 , 5L096FA37 , 5L096GA08 , 5L096HA07

引用特許：

出願人引用 (7件)

特開平4-107945
パターン比較検査方法とその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-326795 出願人：株式会社日立製作所
被検査パターンの欠陥検査方法及びその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-128197 出願人：株式会社日立製作所

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