特許
J-GLOBAL ID:200903043587869540
基板処理装置およびその方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
杉谷 勉
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-193040
公開番号(公開出願番号):特開2005-032770
出願日: 2003年07月07日
公開日(公表日): 2005年02月03日
要約:
【課題】処理の途中で基板を任意に取り出して搬送搬出することができる基板処理装置およびその方法を提供することを目的とする。【解決手段】基板処理を行う処理部と、その処理部に対して基板の受け渡しを行う主搬送機構とを含んで単一のセルを構成し、そのセルを並設して構成された基板処理装置において、異常発生を検出すれば、その異常発生に関わった基板に対して異常発生時以降の基板処理を行わずに搬送搬出するアボート処理を実行する。このアボート処理は、異常発生に関わった基板が各セル間で搬送されて、最終的にインデクサセルC1のカセットに収納されることで行われる。このような搬送制御により、処理の途中で異常に関わった基板を任意に取り出して搬送搬出することができる。【選択図】 図19
請求項(抜粋):
基板処理を行う処理部と、その処理部に対して基板の受け渡しを行う主搬送機構とを含んで単一の処理ブロックを構成し、処理ブロックを並設して構成される基板処理装置であって、
各処理ブロックの主搬送機構を制御する制御手段と、
所定の基板または基板群について処理の終了指示を前記制御手段に与える終了指示手段とを備え、
前記制御手段は、終了指示手段からの指示に基づいて、前記指示のあった基板または基板群に対してそれが処理されている処理以降の処理を行わずに、隣接する処理ブロックに基板を受け渡して、基板を搬送搬出させるように各主搬送機構を制御することを特徴とする基板処理装置。
IPC (3件):
H01L21/68
, H01L21/02
, H01L21/027
FI (3件):
H01L21/68 A
, H01L21/02 Z
, H01L21/30 562
Fターム (26件):
5F031CA02
, 5F031CA05
, 5F031DA01
, 5F031FA01
, 5F031FA07
, 5F031FA11
, 5F031FA12
, 5F031FA15
, 5F031GA47
, 5F031GA48
, 5F031GA49
, 5F031HA33
, 5F031HA37
, 5F031HA38
, 5F031HA59
, 5F031MA02
, 5F031MA03
, 5F031MA23
, 5F031MA24
, 5F031MA26
, 5F031MA27
, 5F031PA02
, 5F031PA10
, 5F046CD05
, 5F046JA27
, 5F046LA19
引用特許:
出願人引用 (5件)
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基板処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-337053
出願人:東京エレクトロン株式会社
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基板処理装置および基板処理方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-329527
出願人:大日本スクリーン製造株式会社
-
基板処理装置及び基板処理方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-122076
出願人:東京エレクトロン株式会社
-
基板処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-348428
出願人:東京エレクトロン株式会社
-
特表平3-500833
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審査官引用 (6件)
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基板処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-337053
出願人:東京エレクトロン株式会社
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基板処理装置および基板処理方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-329527
出願人:大日本スクリーン製造株式会社
-
基板処理装置及び基板処理方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-122076
出願人:東京エレクトロン株式会社
-
基板処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-348428
出願人:東京エレクトロン株式会社
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特表平3-500833
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特表平3-500833
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