特許
J-GLOBAL ID:200903043938162731
遠紫外線用レジスト
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
高橋 敬四郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-267628
公開番号(公開出願番号):特開平7-120927
出願日: 1993年10月26日
公開日(公表日): 1995年05月12日
要約:
【要約】【目的】 微細パターン形成のために遠紫外線を用いる露光技術に関し、KrFエキシマレーザ光等の遠紫外領域において、透明性が高く、かつ反射光の影響が少ない露光技術を提供することを目的とする。【構成】 遠紫外領域において透明性の高いベースポリマを用い、光酸発生剤と共にブリーチング剤を用いることによって有効に反射光を低減することができる。また、ブリーチング剤を添加することによってレジストパターン上端における庇の発生を防止することができる。
請求項(抜粋):
主としてベースポリマと光酸発生剤で構成される化学増幅型レジストと、前記化学増幅型レジストに添加されたブリーチング剤とを含む遠紫外線用レジスト。
IPC (6件):
G03F 7/039 501
, C08F 20/18 MMG
, C08L101/00 LSZ
, G03F 7/004 501
, G03F 7/004 503
, H01L 21/027
引用特許:
出願人引用 (15件)
全件表示
審査官引用 (31件)
-
特開平3-276157
-
特開平4-039665
-
特開平3-229255
-
レジスト材料およびそれを用いるパターン形成方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-060469
出願人:富士通株式会社
-
特開平1-300248
-
特開平3-276157
-
特開平3-229255
-
特開平3-289658
-
感光性組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-253523
出願人:富士写真フイルム株式会社
-
特開平3-103854
-
特開平2-084648
-
特開昭64-033544
-
レジスト材料及びそれを用いたパターン形成方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-191121
出願人:松下電器産業株式会社, 和光純薬工業株式会社
-
特開平3-289658
-
レジスト組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-312671
出願人:日本ゼオン株式会社
-
ポジ型レジスト材料
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-041718
出願人:信越化学工業株式会社, 日本電信電話株式会社
-
ジフェノール酸第三級ブチルエステル誘導体及びそれを含有するポジ型レジスト材料
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-244004
出願人:信越化学工業株式会社, 日本電信電話株式会社
-
特開昭64-033544
-
ポジ型フォトレジスト組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-005795
出願人:住友化学工業株式会社
-
特開平4-039665
-
特開平3-276157
-
特開平3-229255
-
特開平3-103854
-
特開平2-084648
-
特開平3-289658
-
特開昭64-033544
-
特開平3-276157
-
特開平3-229255
-
特開平1-300248
-
特開平3-289658
-
特開昭64-033544
全件表示
前のページに戻る