遠紫外線用レジスト

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高橋敬四郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-267628
公開番号（公開出願番号）：特開平7-120927
出願日： 1993年10月26日
公開日（公表日）： 1995年05月12日
要約：

【要約】【目的】微細パターン形成のために遠紫外線を用いる露光技術に関し、KrFエキシマレーザ光等の遠紫外領域において、透明性が高く、かつ反射光の影響が少ない露光技術を提供することを目的とする。【構成】遠紫外領域において透明性の高いベースポリマを用い、光酸発生剤と共にブリーチング剤を用いることによって有効に反射光を低減することができる。また、ブリーチング剤を添加することによってレジストパターン上端における庇の発生を防止することができる。

請求項（抜粋）：

主としてベースポリマと光酸発生剤で構成される化学増幅型レジストと、前記化学増幅型レジストに添加されたブリーチング剤とを含む遠紫外線用レジスト。

IPC (6件)：

G03F 7/039 501 , C08F 20/18 MMG , C08L101/00 LSZ , G03F 7/004 501 , G03F 7/004 503 , H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (15件)

特開平3-276157
特開平4-039665
特開平3-229255

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