特許
J-GLOBAL ID：200903044038365820
露光装置及びデバイス製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
志賀 正武
, 高橋 詔男
, 青山 正和
, 西 和哉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-372451
公開番号（公開出願番号）：特開2007-173718
出願日： 2005年12月26日
公開日（公表日）： 2007年07月05日
要約：
【課題】露光性能の劣化を抑制できる液浸露光装置を提供する。【解決手段】露光装置は、投影光学系PLの像面に最も近い第1光学素子LS1の下面と基板Pの上面の間の第1空間K1を液体で満たす第1液浸システム1と、第1光学素子LS1と第2光学素子LS2の間の第2空間K2を液体LQで満たす第2液浸システム2を含み、第1光学素子LS1と第2光学素子LS2との間に供給された液体LQの気化熱に起因する温度変化を抑制するための抑制装置60を備えている。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
第1光学素子及び第2光学素子を介して基板上に露光光を照射して前記基板を露光する露光装置において、
前記第1光学素子と前記第2光学素子との間に供給された液体の気化熱に起因する温度変化を抑制するための抑制装置を備えた露光装置。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L21/30 515D
, G03F7/20 521
, H01L21/30 516E
5F046BA04
, 5F046BA05
, 5F046CB01
, 5F046CB12
, 5F046CB25
, 5F046CB26
, 5F046DA12
, 5F046DA26
, 5F046DB02
, 5F046DC09
