欠陥検査方法及びその装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：作田康夫 , 井上学
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-283016
公開番号（公開出願番号）：特開2006-098156
出願日： 2004年09月29日
公開日（公表日）： 2006年04月13日
要約：

【課題】パターンの微細化の微細化に対応した高感度欠陥検査方法とその装置を提供する。【解決手段】対物レンズと試料の間を液で満たして、実効NA(Numerical Aperture)を大きくすることにより、光学系の解像度を向上する。さらに、対物レンズと試料の間を透明膜に近い屈折率の液体で浸すことにより、試料表面に透明な層間絶縁膜が形成されている場合においても液と絶縁膜界面での振幅分割を抑制し、薄膜干渉による明るさむらを低減する。これらの技術により、欠陥検査感度を向上する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

照明光源から発射された光を照明光学系を介して試料の表面に照射し、該光が照射された試料を検出光学系を介して撮像して該試料の画像を得、該撮像して得た試料の画像を記憶しておいた画像と比較して欠陥を検出する方法であって、前記検出光学系の撮像倍率に応じて前記照明光学系による前記試料表面の光の照射領域を変化させることを特徴とする欠陥検査方法。

IPC (1件)：

G01N 21/956

FI (1件)：

G01N21/956 A

Fターム (13件)：

2G051AA51 , 2G051AB01 , 2G051AB07 , 2G051BA05 , 2G051BB09 , 2G051BB17 , 2G051CA04 , 2G051DA03 , 2G051DA08 , 2G051EA08 , 2G051EA11 , 2G051EA12 , 2G051EB01

引用特許：

出願人引用 (1件)

顕微鏡照明装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-191624 出願人：株式会社ニコン

審査官引用 (6件)

欠陥検出用顕微鏡装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-016218 出願人：オリンパス光学工業株式会社
パターン検査装置,パターン検査装置の制御方法及びパターン検査装置用撮像器
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-149483 出願人：三菱電機株式会社
パターン欠陥検査方法およびその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-267554 出願人：株式会社日立製作所

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