特許
J-GLOBAL ID:200903044125137191
ガラス基材の微細加工方法、微細加工用ガラス基材及び微細加工ガラス製品
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
大谷 保
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-267123
公開番号(公開出願番号):特開2003-073145
出願日: 2001年09月04日
公開日(公表日): 2003年03月12日
要約:
【要約】【課題】 ガラス基材表面の任意の位置に、高さや幅が制御された凹凸形状を効率よく形成させるガラス基材の微細加工方法及び微細加工用ガラス基材を提供すること。【解決手段】 ガラス基材の表面とその近傍に、使用するエッチング液に対するエッチングレートが他の部分と異なる領域を設け、次いでこのガラス基材を当該エッチング液により化学的エッチング処理して、ガラス基材表面に凹凸を形成させるガラス基材の微細加工方法、及びガラス基材の表面とその近傍に、使用するエッチング液に対するエッチングレートが他の部分と異なる領域を有し、かつ当該エッチング液による化学的エッチング処理により、ガラス基材表面に凹凸を形成し得る能力を有する微細加工用ガラス基材である。
請求項(抜粋):
ガラス基材の表面及びその近傍に、使用するエッチング液に対するエッチングレートが他の部分と異なる領域を設け、次いでこのガラス基材を当該エッチング液により化学的エッチング処理して、ガラス基材表面に凹凸を形成させることを特徴とするガラス基材の微細加工方法。
IPC (5件):
C03C 15/00
, C03C 3/083
, C03C 3/091
, G02B 1/00
, G02B 3/00
FI (6件):
C03C 15/00 Z
, C03C 15/00 B
, C03C 3/083
, C03C 3/091
, G02B 1/00
, G02B 3/00 Z
Fターム (68件):
4G059AA11
, 4G059AB01
, 4G059AB05
, 4G059AB07
, 4G059AB11
, 4G059AC01
, 4G062AA04
, 4G062BB01
, 4G062BB03
, 4G062CC10
, 4G062DA06
, 4G062DA07
, 4G062DB02
, 4G062DB03
, 4G062DC04
, 4G062DD01
, 4G062DE03
, 4G062DF01
, 4G062EA03
, 4G062EB03
, 4G062EB04
, 4G062EC01
, 4G062ED02
, 4G062ED03
, 4G062EE02
, 4G062EE03
, 4G062EF01
, 4G062EG03
, 4G062EG04
, 4G062FA01
, 4G062FB03
, 4G062FC01
, 4G062FD01
, 4G062FE01
, 4G062FF01
, 4G062FG01
, 4G062FH01
, 4G062FJ01
, 4G062FK03
, 4G062FL01
, 4G062GA01
, 4G062GA10
, 4G062GB01
, 4G062GC01
, 4G062GD01
, 4G062GE01
, 4G062HH01
, 4G062HH03
, 4G062HH05
, 4G062HH07
, 4G062HH09
, 4G062HH11
, 4G062HH13
, 4G062HH15
, 4G062HH17
, 4G062HH20
, 4G062JJ01
, 4G062JJ03
, 4G062JJ05
, 4G062JJ07
, 4G062JJ10
, 4G062KK01
, 4G062KK03
, 4G062KK05
, 4G062KK07
, 4G062KK10
, 4G062MM02
, 4G062NN34
引用特許:
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