特許
J-GLOBAL ID：200903095128629722
プラズマ処理方法およびその装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-063718
公開番号（公開出願番号）：特開平8-106992
出願日： 1995年03月23日
公開日（公表日）： 1996年04月23日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】採光窓の光透過特性の変化の影響を受けることなく、プラズマ発光をモニタする手段を備えたプラズマ処理装置を提供する。【構成】プラズマ処理装置を、内部を観察するための対向する一対の窓部を有する処理室2と、この処理室内でプラズマを発生させるプラズマ発生ユニットと、処理室の外部にあって窓部を介してプラズマの発光をモニタするプラズマ発光モニタユニットと、処理室の外部にあってプラズマ発光モニタユニットと反対の側から対向する一対の窓部1を介してプラズマ発光モニタユニットに参照光8を照射する参照光照射ユニットと、モニタしたプラズマの発光と参照光とのデータを比較して、プラズマ処理状態を制御する制御ユニット11とを備えて構成した。
請求項（抜粋）：
基板をプラズマ処理するプラズマ処理方法において、プラズマ処理室内で発生しているプラズマの発光と、前記プラズマ処理室の外部の光源から発射して前記プラズマ処理室内部を通過したスペクトルが既知の光とを検出し、前記プラズマの発光と前記スペクトル既知の光とのそれぞれのスペクトルの差を求め、該スペクトルの差から前記プラズマ処理室の内部状態を判定することを特徴とするプラズマ処理方法。
IPC (6件)：
H05H 1/46
, C23C 16/50
, C23F 4/00
, H01L 21/203
, H01L 21/205
, H01L 21/3065
