多孔性金属薄膜およびその製造方法

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-249623
公開番号（公開出願番号）：特開2007-063598
出願日： 2005年08月30日
公開日（公表日）： 2007年03月15日
要約：

【課題】表面の孔密度が制御可能な、孔径がナノサイズの多孔性金属薄膜を提供する。【解決方法】密閉容器中でめっき液と二酸化炭素液体の混合液中、二酸化炭素の超臨界状態で電解めっきを行い、基材上に多孔性金属薄膜を形成する。【選択図】図4

請求項（抜粋）：

基材上に形成した多孔性金属薄膜であって、孔の内部に、さらに1段以上の孔が形成されている孔が含まれる、多孔性金属薄膜。

IPC (5件)：

C25D 5/00 , C25D 17/00 , C25D 1/08 , H01M 14/00 , H01M 4/86

FI (5件)：

C25D5/00 , C25D17/00 F , C25D1/08 , H01M14/00 P , H01M4/86 B

Fターム (39件)：

4K024AA02 , 4K024AA03 , 4K024AA04 , 4K024AA05 , 4K024AA07 , 4K024AA09 , 4K024AA10 , 4K024AA11 , 4K024AA12 , 4K024AA14 , 4K024AB19 , 4K024CB01 , 4K024CB26 , 4K024GA16 , 5H017AA03 , 5H017AA10 , 5H017BB16 , 5H017BB17 , 5H017CC25 , 5H017DD08 , 5H017EE01 , 5H017EE04 , 5H017HH02 , 5H017HH03 , 5H018AA06 , 5H018BB01 , 5H018BB03 , 5H018BB07 , 5H018BB12 , 5H018EE02 , 5H018EE03 , 5H018EE04 , 5H032AA06 , 5H032AS01 , 5H032BB02 , 5H032BB05 , 5H032BB08 , 5H032CC11 , 5H032EE01

引用特許：

出願人引用 (2件)

多孔質金属箔及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-360938 出願人：三井金属鉱業株式会社
多孔質金属化合物薄膜の成膜方法及び有機色素増感型太陽電池
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-199300 出願人：株式会社ブリヂストン, 独立行政法人物質・材料研究機構

審査官引用 (5件)

電気メッキ等の電気化学的処理方法およびその電気化学的反応装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-401301 出願人：吉田英夫, 宮田清蔵, 浅井美博
回路基板の配線形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-131163 出願人：富士通株式会社
電気化学的反応方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-253572 出願人：吉田英夫, 宮田清蔵, 浅井美博

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