特許
J-GLOBAL ID:200903044426375900
高分子成形体の着色方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
杉村 暁秀 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-295478
公開番号(公開出願番号):特開2002-105228
出願日: 2000年09月28日
公開日(公表日): 2002年04月10日
要約:
【要約】【課題】 経済的で、かつ、均一に顔料を着色できる着色方法を提供することである。【解決手段】 本発明は、二酸化炭素の超臨界状態下において、少なくとも表面に非晶質層を有する高分子成形体に顔料を接触させることを特徴とする。また、二酸化炭素の超臨界状態での温度が、高分子成形体のガラス転移温度以上、かつ、融点以下の温度であることを特徴とする。
請求項(抜粋):
二酸化炭素の超臨界状態下において、少なくとも表面に非晶質層を有する高分子成形体に顔料を接触させることを特徴とする高分子成形体の着色方法。
IPC (6件):
C08J 7/04
, C08J 7/00
, D06P 1/44
, D06P 3/00
, D06P 5/00
, D06P 5/20
FI (6件):
C08J 7/04 Z
, C08J 7/00 A
, D06P 1/44 A
, D06P 3/00 E
, D06P 5/00 D
, D06P 5/20 A
Fターム (46件):
4F006AA12
, 4F006AA15
, 4F006AA17
, 4F006AA18
, 4F006AA19
, 4F006AA35
, 4F006AA36
, 4F006AB65
, 4F006BA15
, 4F006DA02
, 4F006DA05
, 4F006EA01
, 4F006EA02
, 4F073AA15
, 4F073BA07
, 4F073BA08
, 4F073BA13
, 4F073BA15
, 4F073BA17
, 4F073BA19
, 4F073BA23
, 4F073BA24
, 4F073BA26
, 4F073BB05
, 4F073DA08
, 4F073DA09
, 4F073EA75
, 4F073GA11
, 4H057AA02
, 4H057BA15
, 4H057CA29
, 4H057CB49
, 4H057CC02
, 4H057DA02
, 4H057DA17
, 4H057DA18
, 4H057DA32
, 4H057DA34
, 4H057FA16
, 4H057FA17
, 4H057GA03
, 4H057HA01
, 4H057HA02
, 4H057JA10
, 4H057JA14
, 4H057JB02
引用特許: