特許
J-GLOBAL ID：200903044442230326

多層フィルムおよびこれを用いてなる真空断熱構造体

発明者：
中島 寛幸

中島 寛幸 について


出願人/特許権者：
日本合成化学工業株式会社

日本合成化学工業株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-089113
公開番号（公開出願番号）：特開2009-241328
出願日： 2008年03月31日
公開日（公表日）： 2009年10月22日
要約：
【課題】 ガスバリア性、特には高湿度下での水蒸気バリア性に優れ、更には断熱性能にも優れた多層フィルム及び真空断熱構造体を提供すること。【解決手段】多段蒸着により形成された蒸着基材フィルム(A)/ガスバリア性フィルム(B)の層構成を有する多層フィルム、及び該多層フィルムと断熱性材料を含み、該多層フィルムが、断熱性材料を密封包装している真空断熱構造体。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
多段蒸着により形成された蒸着基材フィルム(A)/ガスバリア性フィルム(B)の層構成を有することを特徴とする多層フィルム。
IPC (5件)：
B32B 15/08 ,  F16L 59/06 ,  B32B 15/20 ,  C23C 14/14 ,  C23C 14/06
FI (5件)：
B32B15/08 K ,  F16L59/06 ,  B32B15/20 ,  C23C14/14 B ,  C23C14/06 N
Fターム (45件)：
3H036AA08 ,  3H036AA09 ,  3H036AB18 ,  3H036AB28 ,  3H036AE02 ,  4F100AB10A ,  4F100AK01B ,  4F100AK01C ,  4F100AK03B ,  4F100AK04 ,  4F100AK07 ,  4F100AK21C ,  4F100AK41B ,  4F100AK42 ,  4F100AR00D ,  4F100BA03 ,  4F100BA04 ,  4F100BA07 ,  4F100BA10B ,  4F100BA10C ,  4F100DD32 ,  4F100EH66A ,  4F100EJ38C ,  4F100GB07 ,  4F100GB48 ,  4F100GB71 ,  4F100JD02C ,  4F100JD04 ,  4F100JJ02D ,  4F100JK14 ,  4F100YY00A ,  4K029AA11 ,  4K029AA25 ,  4K029BA03 ,  4K029BA04 ,  4K029BA05 ,  4K029BA35 ,  4K029BA44 ,  4K029BA46 ,  4K029BB02 ,  4K029BC00 ,  4K029CA01 ,  4K029DB18 ,  4K029DB19 ,  4K029DB21
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (12件)
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