特許
J-GLOBAL ID:200903044644778544

ハニカム成形体の製造方法及び乾燥装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 高橋 祥泰 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-370394
公開番号(公開出願番号):特開2002-283330
出願日: 2001年12月04日
公開日(公表日): 2002年10月03日
要約:
【要約】【課題】 セル壁厚さが0.125mm以下のハニカム成形体を,外周スキン部に割れ,しわ等の欠陥を生じさせることなく乾燥することができるハニカム成形体の製造方法及び乾燥装置を提供すること。【解決手段】 厚さ0.125mm以下のセル壁11をハニカム状に配して多数のセル10を設けたセラミック製のハニカム成形体1を製造する方法において,押出成形された粘土質のハニカム成形体1を乾燥するに当たり,ハニカム成形体1を湿度が70%以上の高湿度雰囲気に晒すと共に,周波数1000〜10000MHz領域のマイクロ波を照射した後,さらに熱風乾燥を実施する。
請求項(抜粋):
厚さ0.125mm以下のセル壁をハニカム状に配して多数のセルを設けたセラミック製のハニカム成形体を製造する方法において,押出成形された粘土質のハニカム成形体を乾燥するに当たり,該ハニカム成形体を湿度が70%以上の高湿度雰囲気に晒すと共に,周波数1000〜10000MHz領域のマイクロ波を照射して乾燥した後,上記ハニカム成形体に対して,上記セルを通過するように熱風を当てることを特徴とするハニカム成形体の製造方法。
IPC (5件):
B28B 11/00 ,  B28B 3/26 ,  F26B 3/347 ,  F26B 15/12 ,  F26B 21/00
FI (5件):
B28B 3/26 A ,  F26B 3/347 ,  F26B 15/12 D ,  F26B 21/00 A ,  B28B 11/00 Z
Fターム (25件):
3L113AA03 ,  3L113AB02 ,  3L113AB06 ,  3L113AC05 ,  3L113AC13 ,  3L113AC20 ,  3L113AC27 ,  3L113AC31 ,  3L113AC36 ,  3L113AC45 ,  3L113AC46 ,  3L113AC54 ,  3L113AC63 ,  3L113AC64 ,  3L113AC76 ,  3L113BA04 ,  3L113BA12 ,  3L113DA24 ,  4G054AA05 ,  4G054AB09 ,  4G054BD19 ,  4G055AA08 ,  4G055AB03 ,  4G055AC10 ,  4G055BA12
引用特許:
審査官引用 (4件)
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