特許
J-GLOBAL ID:200903044848963383
眼屈折力測定装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-188545
公開番号(公開出願番号):特開2009-078129
出願日: 2008年07月22日
公開日(公表日): 2009年04月16日
要約:
【課題】 被検眼の不正乱視についての解析を精度よく行う。【解決手段】 被検眼の瞳孔中心部から被検眼眼底にスポット状の測定光束を投光し被検眼瞳孔の周辺部から所定のパターン形状を持つ眼底反射光束を取り出して二次元撮像素子に受光させることによりパターン画像を二次元撮像素子によって撮像させる測定光学系と、測定光学系における投光光路と受光光路との共通光路に配置され、かつ、瞳孔と共役位置から外れた位置に配置された光束偏向部材を持ち、所定のパターン形状を持つ反射光束が被検眼瞳孔上で偏心回転されるように前記光束偏向部材を回転させる回転手段と、二次元撮像素子に受光された前記パターン画像を測定画像として記憶する記憶手段と、測定画像を解析することにより被検眼の屈折力と該屈折力以外の被検眼の角膜または/及び水晶体の情報とを取得する解析手段と、を備える。【選択図】 図9
請求項(抜粋):
被検眼の瞳孔中心部から被検眼眼底にスポット状の測定光束を投光し被検眼瞳孔の周辺部から所定のパターン形状を持つ眼底反射光束を取り出して二次元撮像素子に受光させる,もしくは被検眼瞳孔の周辺部から所定のパターン形状を持つ測定光束を投光することにより被検眼の眼底に所定のパターン像を投影しその眼底反射像を二次元撮像素子に受光させることにより眼屈折力測定用パターン画像を二次元撮像素子によって撮像させる測定光学系と、
前記測定光学系の光路に配置され、かつ瞳孔と共役位置から外れた位置に配置された光束偏向部材を持ち、前記所定のパターン形状を持つ反射光束もしくは投光光束が被検眼瞳孔上で偏心回転されるように前記光束偏向部材を回転させる回転手段と、
前記光束偏向部材を介して二次元撮像素子に受光された前記パターン画像を測定画像として記憶する記憶手段と、
前記記憶手段に記憶された前記測定画像を解析することにより被検眼の屈折力と該屈折力以外の被検眼の角膜または/及び水晶体の情報とを取得する解析手段と、
該解析手段によって解析された結果を出力する出力手段と、
を備えることを特徴とする眼屈折力測定装置。
IPC (1件):
FI (3件):
A61B3/10 M
, A61B3/10 Z
, A61B3/10 H
引用特許:
出願人引用 (1件)
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眼科用測定装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-115684
出願人:キヤノン株式会社
審査官引用 (5件)
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眼屈折力測定装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2005-280971
出願人:株式会社ニデック
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眼屈折力測定装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2005-194207
出願人:株式会社ニデック
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眼屈折力測定装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2003-430787
出願人:株式会社ニデック
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眼光学測定装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-359608
出願人:キヤノン株式会社
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特開平1-129830
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