X線分析装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：坂上正明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-022824
公開番号（公開出願番号）：特開2003-222698
出願日： 2002年01月31日
公開日（公表日）： 2003年08月08日
要約：

【要約】【課題】本発明は、コリメータ部の面積を大きくすることなく、任意のサイズのX線照射領域を実現することを課題とする。【解決手段】一次X線を発生させるX線発生部と、試料からの二次X線を検出するX線検出部と、試料に照射する一次X線を制限するためのコリメータ部とを備えたX線分析装置において、コリメータ部は、少なくとも一つのL字型の辺を有する2つのX線遮蔽物を備え、該2つのX線遮蔽物によって長方形や正方形の開口部を形成するように組み合わせ、さらにX線遮蔽物移動機構を備えて、X線照射領域の形状及びサイズを変更できるようにした。

請求項（抜粋）：

一次X線を発生させるX線発生部と、試料からの二次X線を検出するX線検出部と、試料に照射する一次X線を制限するためのコリメータ部とを備えたX線分析装置において、前記コリメータ部は、少なくとも一つのL字型の辺を有する2つのX線遮蔽物を備え、該2つのX線遮蔽物によって四角形の開口部を形成するように組み合わせ、試料に照射するX線照射領域を制限することを特徴とする、X線分析装置。

IPC (3件)：

G21K 1/04 , G01N 23/223 , G21K 5/02

FI (3件)：

G21K 1/04 D , G01N 23/223 , G21K 5/02 X

Fターム (14件)：

2G001AA01 , 2G001BA04 , 2G001CA01 , 2G001DA02 , 2G001DA06 , 2G001GA04 , 2G001GA05 , 2G001HA09 , 2G001HA13 , 2G001JA04 , 2G001JA13 , 2G001JA20 , 2G001SA02 , 2G001SA30

引用特許：

審査官引用 (11件)

蛍光X線分析装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-073853 出願人：セイコーインスツルメンツ株式会社
特開昭60-006900
特開昭63-286170

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