特許
J-GLOBAL ID：200903045030369466
露光装置及びデバイスの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
丸島 儀一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-026340
公開番号（公開出願番号）：特開平11-307449
出願日： 1999年02月03日
公開日（公表日）： 1999年11月05日
要約：
【要約】【課題】 多重露光による微細パターンの形成を高精度に行う。【解決手段】 感光性基板上に現像前にパターン露光を多重に行う装置で、該多重のパターン露光の少なくともいくつかを、パターンとは別の潜像によるマークを用いて感光性基板との相対位置合わせを行う事によって実行する。
請求項（抜粋）：
感光性基板上に現像前にパターン露光を多重に行う装置であって、該多重のパターン露光の少なくともいくつかを、前記パターンとは別の露光形成されたアライメントマークの潜像を用いて前記感光性基板との相対位置合わせを行う事によって実行することを特徴とする露光装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
, G03F 9/00
H01L 21/30 514 A
, G03F 7/20 521
, G03F 9/00 H
, H01L 21/30 520 Z
, H01L 21/30 528
