特許

J-GLOBAL ID：200903045143275336

ガラス基板の化学加工方法及び化学加工装置

発明者： 西山 智弘 ,  出口 幹郎 ,  糸川 勝博 ,  小谷 誠 ,  溝口 幸一
出願人/特許権者： 西山ステンレスケミカル株式会社
代理人 (1件)： 福島 三雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-110829
公開番号（公開出願番号）：特開2003-040649
出願日： 2002年04月12日
公開日（公表日）： 2003年02月13日
要約：

【要約】【課題】 ガラス基板の大きさに関係なく、ガラス基板の板厚を薄くしつつ、表面を均一に平坦化することができ、ガラスの再利用が可能である各種フラットパネルディスプレイ用ガラス基板の化学加工方法及び化学加工装置を提供することを主たる目的とする。【解決手段】 フッ酸を主成分とした化学加工液を貯溜する化学加工液貯溜槽11の底部から気泡を伴なう化学加工液の上昇液流を発生させ、この加工液中にガラス基板を浸漬して、ガラス基板の外表面の片側の一部或いは全部、或いは外表面の両側の一部或いは全部を加工する。

請求項（抜粋）：

フッ酸を主成分とした化学加工液を貯溜する化学加工液貯溜槽の底部から気泡を伴なう化学加工液の上昇液流を発生させ、この加工液中にガラス基板を浸漬して、ガラス基板の外表面の片側の一部或いは全部、或いは外表面の両側の一部或いは全部を加工することを特徴とするガラス基板の化学加工方法。

IPC (5件)：

C03C 15/00 ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1333 500 ,  H01J 9/24 ,  H01J 17/16

FI (6件)：

C03C 15/00 Z ,  C03C 15/00 C ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1333 500 ,  H01J 9/24 A ,  H01J 17/16

Fターム (17件)：

2H088FA18 ,  2H088FA30 ,  2H088HA01 ,  2H088MA20 ,  2H090JB02 ,  2H090JC19 ,  2H090JC20 ,  2H090JD14 ,  4G059AA08 ,  4G059AB05 ,  4G059AB19 ,  4G059AC03 ,  4G059BB04 ,  4G059BB14 ,  5C012AA09 ,  5C012BB01 ,  5C040GA09

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 薄膜トランジスタ液晶ディスプレイ用ガラスの自動エッチング装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-327463   出願人：システムテクノロジーインコーポレイティッド
• ウエットエッチング処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-205015   出願人：松下電子工業株式会社
• フィルトレーションシステム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-068266   出願人：三菱電機株式会社
• フィルトレーションシステム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-068265   出願人：三菱電機株式会社