特許
J-GLOBAL ID：200903045161950822
化学的に増幅された電子線リソグラフィ用レジスト
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山口 巖
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-327951
公開番号（公開出願番号）：特開平11-231542
出願日： 1998年11月18日
公開日（公表日）： 1999年08月27日
要約：
【要約】【課題】 公知のレジストと比べて改善された持続(遅延)時間挙動を示し、電子線リソグラフィに適した化学的に増幅されたレジストを提供する。【解決手段】 酸触媒により分解可能の溶解を抑制する基を有するポリマー、電子線照射の際にpKa値≦2.5を有するスルホン酸を遊離させる光反応性化合物(光造酸物)、電子線に敏感な増感剤及び溶媒から成るレジストを製造する。
請求項（抜粋）：
酸触媒により分解可能の溶解を抑制する基を有するポリマー、電子線照射の際にpKa 値≦2.5を有するスルホン酸を遊離させる光反応性化合物(光造酸物)、電子線に敏感な増感剤、及び溶媒を含んでいることを特徴とする化学的に増幅された電子線リソグラフィ用レジスト。
IPC (3件)：
G03F 7/039 601
, G03F 7/004 503
, H01L 21/027
G03F 7/039 601
, G03F 7/004 503 A
, H01L 21/30 502 R
