負圧又は真空中において材料蒸気によつて基板を被覆する装置

発明者： ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：中平治
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-515641
公開番号（公開出願番号）：特表平9-511792
出願日： 1995年11月09日
公開日（公表日）： 1997年11月25日
要約：

【要約】本発明は、材料蒸気源(1)、及び陽極(4’)と陰極(4”)との間にブラズマ(7)を発生しかつ材料蒸気によって決まるアーク放電内において材料蒸気(6)をイオン化するために冷陽極(4’)と陰極(4”)とからなるイオン化装置(4)が設けられている、負圧又は真空中において材料蒸気(6)によって基板(3)を被覆する装置に関する。その際、材料蒸気源(1)とイオン化装置(4)の陽極(4’)及び陰極(4”)とが、互いに電気的に切離されている。それによりどのような相互妨害作用も生じない。その上蒸発速度とイオン化度は、互いにデカップリングされており、したがって大きな範囲にわたって互いに無関係に変更及び最適化することができる。

請求項（抜粋）：

1 材料蒸気源(1)、及び陽極(4’)と陰極(4”)との間にプラズマ(7)を発生しかつ材料蒸気によって援助されるアーク放電内において材料蒸気(6)をイオン化するために冷陽極(4’)と冷陰極(4”)とからなるイオン化装置(4)が設けられており、その際、材料蒸気源(1)とイオン化装置(4)の陽極(4’)及び陰極(4”)とが、互いに電気的に切離されている、負圧又は真空中において材料蒸気(6)によって基板(3)を被覆する装置。2 陽極(4’)及び/又は陰極(4”)が、その所望の冷却状態を達成するために冷却可能又は加熱可能であることを特徴とする、請求項1記載の装置。3 陽極(4’)が、導電する溶融しにくいかつ高温に耐える材料からなることを特徴とする、請求項1又は2記載の装置。4 陽極(4’)の範囲に追加的な磁界が加えられていることを特徴とする、請求項1ないし3の1つに記載の装置。5 陽極(4’)及び陰極(4”)のための電源がパルス状であることを特徴とする、請求項1ないし4の1つに記載の装置。6 陰極焼失を均一化することによって陰極安定性を増加する追加的な装置が設けられていることを特徴とする、1ないし5の1つに記載の装置。7 アーク放電を点弧する追加的な点弧装置が設けられていることを特徴とする、請求項1ないし6の1つに記載の装置。8 イオンを加速する追加的な装置が設けられていることを特徴とする、請求項1ないし7の1つに記載の装置。9 材料蒸気源(1)と被覆すべき基板(3)との間にイオン化装置(4)が配置されていることを特徴とする、請求項1ないし8の1つに記載の装置。10 イオン化装置(4)の位置及び/又は被覆すべき基板(3)の位置及び/又は材料蒸気源(1)の位置の間の距離が可変であることを特徴とする、請求項1ないし9の1つに記載の装置。11 材料蒸気源(1)として、抵抗、誘導又は電子ビーム加熱されるるつぼによる熱蒸発による、スパッタリング技術による、陽極又は陰極アーク蒸発による材料蒸気発生器、又は適当なガス又はガス混合気を有する材料蒸気供給部が設けられていることを特徴とする、請求項1ないし10の1つに記載の装置。12 適当な供給部を介してイオン化領域に、追加的な反応ガス又は反応ガス混合気が供給可能であることを特徴とする、請求項1ないし11の1つに記載の装置。13 陽極(4’)が、反応ガス又は反応ガス混合気のための供給部として構成されていることを特徴とする、請求項12記載の装置。14 反応ガス又は反応ガス混合気のための供給部として、陽極(4’)が、開口を有する管の形に構成されていることを特徴とする、請求項12又は13記載の装置。15 請求項1ないし14の1つに記載の装置を利用して被覆された基板。

IPC (3件)：

C23C 14/32 , H01J 37/32 , H05H 1/48

FI (3件)：

C23C 14/32 B , H01J 37/32 , H05H 1/48

引用特許：

審査官引用 (9件)

特開平3-191052
特開平1-096372
特開昭62-294160

全件表示

前のページに戻る