特許
J-GLOBAL ID：200903045381994073
酸触媒ポジ型レジスト
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
津国 肇 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-114594
公開番号（公開出願番号）：特開平8-314142
出願日： 1996年05月09日
公開日（公表日）： 1996年11月29日
要約：
【要約】【課題】 本発明は、ディープUV露光に適した、サブミクロン寸法の高解像形状を形成する能力を有するフォトレジスト組成物を提供することを目的とする。【解決手段】 本発明は、ヒドロキシル基を有するアルカリ可溶性樹脂バインダーと、光によって発生した酸と接触すると開裂する酸不安定性基を有する溶解抑制剤と、活性化電磁波又は粒子線に曝されると酸を発生する化合物との組み合わせを含むポジ型フォトレジスト組成物であって、該樹脂バインダーが、そのヒドロキシル基の従部分が反応させられて、光によって発生した酸に対して不活性の基が形成されたものであり、該酸発生剤が、活性化電磁波又は粒子線に曝されると、該溶解抑制剤における該酸不安定性基を開裂させるのに十分な酸を遊離する量で存在し、それにより、該フォトレジストが、活性化電磁波又は粒子線に曝されるところをもって可溶となることを特徴とする。
請求項（抜粋）：
ヒドロキシル基を有するアルカリ可溶性樹脂バインダーと、光によって発生した酸と接触すると開裂する酸不安定性基を有する溶解抑制剤と、活性化電磁波又は粒子線に曝されると酸を発生する化合物との組み合わせを含むポジ型フォトレジスト組成物であって、該樹脂バインダーが、そのヒドロキシル基の従部分が反応させられて、光によって発生した酸に対して不活性の基が形成されたものであり、該酸発生剤が、活性化電磁波又は粒子線に曝されると、該溶解抑制剤における該酸不安定性基を開裂させるのに十分な酸を遊離する量で存在し、それにより、該フォトレジストが、活性化電磁波又は粒子線に曝されるところをもって可溶となることを特徴とするフォトレジスト組成物。
IPC (5件)：
G03F 7/039 501
, G03F 7/004 501
, G03F 7/004 503
, G03F 7/033
, H01L 21/027
G03F 7/039 501
, G03F 7/004 501
, G03F 7/004 503
, G03F 7/033
, H01L 21/30 502 R
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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