特許

J-GLOBAL ID：200903045465896239

光触媒組成物

発明者： 中林 亮 ,  太田 一也
出願人/特許権者： 旭化成株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-153562
公開番号（公開出願番号）：特開2001-329189
出願日： 2000年05月24日
公開日（公表日）： 2001年11月27日
要約：

【要約】【目的】 貯蔵安定性が良好であり、透明性や耐久性、硬度等に優れ、光触媒活性を有するコーティング被膜を穏和な条件で形成することができる光触媒組成物を提供する。【構成】 数平均粒子径400nm以下の光触媒ゾルと1分子中にSi-H基を2個以上有するシリコーン化合物とを含有することを特徴とする光触媒組成物。

請求項（抜粋）：

数平均粒子径400nm以下の光触媒ゾルと、1分子中にSi-H基を2個以上有するシリコーン化合物とを含有することを特徴とする光触媒組成物。

IPC (15件)：

C09D 5/00 ,  B01J 35/02 ,  B01J 37/02 301 ,  C08G 77/12 ,  C08G 77/38 ,  C08K 3/22 ,  C08K 5/00 ,  C08K 9/06 ,  C08L 83/05 ,  C08L 83/06 ,  C08L 83/07 ,  C08L 83/08 ,  C08L101/00 ,  C09D183/04 ,  C09D183/05

FI (15件)：

C09D 5/00 Z ,  B01J 35/02 J ,  B01J 37/02 301 R ,  C08G 77/12 ,  C08G 77/38 ,  C08K 3/22 ,  C08K 5/00 ,  C08K 9/06 ,  C08L 83/05 ,  C08L 83/06 ,  C08L 83/07 ,  C08L 83/08 ,  C08L101/00 ,  C09D183/04 ,  C09D183/05

Fターム (127件)：

4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069AA09 ,  4G069BA04A ,  4G069BA04B ,  4G069BA21A ,  4G069BA21B ,  4G069BA22A ,  4G069BA22B ,  4G069BA37 ,  4G069BA48A ,  4G069BC69A ,  4G069BE32A ,  4G069BE32B ,  4G069CA01 ,  4G069CA07 ,  4G069CD10 ,  4G069DA06 ,  4G069EA08 ,  4G069EB18Y ,  4G069FB24 ,  4G069FC05 ,  4J002AC123 ,  4J002BB243 ,  4J002BC003 ,  4J002BD143 ,  4J002BD153 ,  4J002BE013 ,  4J002BF003 ,  4J002BG003 ,  4J002BG083 ,  4J002CD123 ,  4J002CF013 ,  4J002CF213 ,  4J002CK023 ,  4J002CP033 ,  4J002CP041 ,  4J002CP051 ,  4J002CP081 ,  4J002CP091 ,  4J002CP101 ,  4J002CP111 ,  4J002CP142 ,  4J002CP161 ,  4J002CP173 ,  4J002DE136 ,  4J002EA017 ,  4J002ED017 ,  4J002EH077 ,  4J002EH107 ,  4J002FB096 ,  4J002FB266 ,  4J002FD142 ,  4J002FD147 ,  4J002GH01 ,  4J002HA05 ,  4J035AA05 ,  4J035BA01 ,  4J035BA11 ,  4J035CA01K ,  4J035CA01U ,  4J035CA02N ,  4J035CA02U ,  4J035CA021 ,  4J035CA03M ,  4J035CA032 ,  4J035CA06M ,  4J035CA06U ,  4J035CA062 ,  4J035CA07M ,  4J035CA072 ,  4J035CA08M ,  4J035CA082 ,  4J035CA09M ,  4J035CA092 ,  4J035CA10M ,  4J035CA102 ,  4J035CA11M ,  4J035CA112 ,  4J035CA13M ,  4J035CA132 ,  4J035CA15K ,  4J035CA15M ,  4J035CA15U ,  4J035CA151 ,  4J035CA152 ,  4J035CA18M ,  4J035CA182 ,  4J035CA19M ,  4J035CA192 ,  4J035CA21M ,  4J035CA212 ,  4J035CA26M ,  4J035CA262 ,  4J035CA27M ,  4J035CA272 ,  4J035FB02 ,  4J035FB03 ,  4J035FB05 ,  4J035FB10 ,  4J035LB01 ,  4J038DL042 ,  4J038DL052 ,  4J038DL072 ,  4J038DL082 ,  4J038DL092 ,  4J038GA03 ,  4J038GA06 ,  4J038GA07 ,  4J038GA08 ,  4J038GA09 ,  4J038GA11 ,  4J038GA12 ,  4J038GA13 ,  4J038GA14 ,  4J038GA16 ,  4J038HA216 ,  4J038KA14 ,  4J038KA20 ,  4J038MA14 ,  4J038NA01 ,  4J038NA03 ,  4J038NA05 ,  4J038NA06 ,  4J038NA07 ,  4J038NA11 ,  4J038NA27

引用特許：

審査官引用 (6件)

• 特開平4-040229
  
• 特許第4212242号
  
• 特開昭59-168061
  
• 加工性・耐光性に優れた光触媒皮膜およびその形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-183631   出願人：昭和アルミニウム株式会社
• 光触媒性親水性コーティング組成物、親水性被膜の形成方法および被覆物品
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-271700   出願人：東陶機器株式会社, 信越化学工業株式会社
• シリカ薄膜形成用組成物およびシリカ薄膜の形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-056882   出願人：東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社