特許
J-GLOBAL ID：200903045594951270
光学機器部品用石英ガラスブランク、その製造方法及びその使用
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
曾我 道照 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-353981
公開番号（公開出願番号）：特開2003-176141
出願日： 2002年12月05日
公開日（公表日）： 2003年06月24日
要約：
【要約】【課題】 わずかな誘起性吸収を示し、同時に圧密及び圧密減少特性に関して最適化された、波長250nm以下の紫外線を透過する光学機器部品用合成石英ガラスブランクを提供し、加えて上記のタイプの光学機器部品の費用効果的製造方法及びそのような部品の適切な使用を提供する。【解決手段】 本発明による石英ガラスブランクは下記の特性によって特徴づけられる:酸素欠損部位が実質的に存在しないガラス構造、H2-含有量:0.1×1016分子/cm3ないし4.0×1016分子/cm3の範囲、OH-含有量:125wt-ppmないし450wt-ppmの範囲、SiH基-含有量:5×1016分子/cm3未満、屈折率不均質性、△n:2ppm未満、ひずみ複屈折:2nm/cm。
請求項（抜粋）：
波長250nm以下の紫外線を透過する光学機器部品用石英ガラスブランクにおいて、酸素欠損部位を実質上含まず、H2-含有量が0.1×1016分子/cm3ないし4.0×1016分子/cm3の範囲であり、OH-含有量が125wt-ppmないし450wt-ppmの範囲であり、SiH基含有量が5×1016分子/cm3未満であり、屈折率不均質性、△n、が2ppm未満、ひずみ複屈折が2nm/cm未満であるガラス構造によって特徴づけられる前記石英ガラスブランク。
IPC (3件)：
C03B 20/00
, C03B 8/04
, G02B 1/00
C03B 20/00 F
, C03B 8/04 P
, G02B 1/00
4G014AH00
, 4G014AH15
, 4G014AH21
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (7件)
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