特許
J-GLOBAL ID：200903045602629936

光反射性基板の製造方法および反射型液晶表示素子

発明者：
井口 真介

井口 真介 について

, 
吉井 東洋

吉井 東洋 について


出願人/特許権者：
オプトレックス株式会社

オプトレックス株式会社 について


代理人 (1件)： 大原 拓也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-216857
公開番号（公開出願番号）：特開2001-042319
出願日： 1999年07月30日
公開日（公表日）： 2001年02月16日
要約：
【要約】【課題】 基板上に塗布された感光性樹脂を露光・現像して粗面化し、光拡散用の凹凸を形成するにあたって、樹脂を高温でメルティングすることなく滑らかな凹凸面を形成する。【解決手段】 内面拡散反射方式の反射型液晶表示素子に用いられる光反射性基板20を得るにあたって、表面が平滑なガラス基板21上にポジ型感光性ポリイミド樹脂27を膜状に塗布した後、その樹脂膜にフォトマスクを介して部分的に露光して現像し、所定温度で焼成することにより、ポジ型感光性ポリイミド樹脂に凹部27aを形成して、その表面を粗面化する。
請求項（抜粋）：
反射型液晶表示素子の一方の基板として用いられる光反射性基板の製造方法において、表面が平滑な透明基板の一方の面上に、ポジ型感光性ポリイミド樹脂を所定厚さの膜状に塗布した後、そのポジ型感光性ポリイミド樹脂膜に、規則的もしくは不規則的に形成された光透過パターンを有するフォトマスクを介して部分的に露光して現像し、その後に所定温度で焼成することにより、上記ポジ型感光性ポリイミド樹脂に凹部を形成してその表面を粗面化し、その粗面の全面にわたって金属膜よりなる光反射層を形成することを特徴とする光反射性基板の製造方法。
IPC (4件)：
G02F 1/1335 520 ,  G02B 5/02 ,  G03F 7/039 ,  G03F 7/40 501
FI (4件)：
G02F 1/1335 520 ,  G02B 5/02 C ,  G03F 7/039 ,  G03F 7/40 501
Fターム (24件)：
2H025AA00 ,  2H025AB17 ,  2H025AC01 ,  2H025AD03 ,  2H025BF29 ,  2H025BG00 ,  2H025FA03 ,  2H025FA17 ,  2H025FA29 ,  2H042DA02 ,  2H042DA11 ,  2H042DA12 ,  2H042DC02 ,  2H091FA16Y ,  2H091LA18 ,  2H091LA19 ,  2H096AA00 ,  2H096AA27 ,  2H096BA11 ,  2H096EA02 ,  2H096GA08 ,  2H096HA01 ,  2H096HA30 ,  2H096JA04
引用特許：
審査官引用 (5件)
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