特許
J-GLOBAL ID：200903045872526756

透過電子顕微鏡試料作製における電解研磨方法およびこれを利用する装置

発明者：
土肥 謙次

土肥 謙次 について

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曽根田 直樹

曽根田 直樹 について

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石野 栞

石野 栞 について


出願人/特許権者：
財団法人電力中央研究所

財団法人電力中央研究所 について


代理人 (1件)： 村瀬 一美
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-158998
公開番号（公開出願番号）：特開2001-337012
出願日： 2000年05月29日
公開日（公表日）： 2001年12月07日
要約：
【要約】【課題】 試料表面への付着物の生成を防止する。【解決手段】 透過電子顕微鏡用の試料2と、該試料2に向き合う電極3と、試料2および電極3の間に研磨液4を供給する研磨液供給手段5と、試料2および電極3の間に電圧を印加することにより試料2を研磨する印加手段6と、試料2が研磨されて所定の厚さに成ったことを検出して研磨液供給手段5および印加手段6を停止する検出手段7とを備える電解研磨装置1において、試料2が所定の厚さに成ったことを検出手段7が検出した直後に試料2および電極3の間にバイアス電圧を印加するバイアス電圧印加手段8と、検出の直後に試料2に洗浄液9を供給して洗浄する洗浄液供給手段10とを備える。
請求項（抜粋）：
透過電子顕微鏡用の試料と該試料に向き合う電極との間に研磨液を供給すると同時に前記試料および前記電極に電圧を印加して前記試料を研磨する電解研磨方法において、前記試料が所定の厚さに研磨されて前記電圧の印加と前記研磨液の供給とを停止した直後に、前記試料および前記電極にバイアス電圧を印加すると共に前記試料に洗浄液を供給して洗浄することを特徴とする透過電子顕微鏡試料作製における電解研磨方法。
IPC (4件)：
G01N 1/34 ,  C25F 3/16 ,  G01N 1/28 ,  G01N 1/32
FI (5件)：
G01N 1/34 ,  C25F 3/16 Z ,  G01N 1/32 B ,  G01N 1/28 F ,  G01N 1/28 G
引用特許：
出願人引用 (4件)
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