特許

J-GLOBAL ID：200903046010319191

成膜装置及び成膜方法

発明者： 能勢 功一 ,  瀧川 志朗 ,  丸中 正雄 ,  滝川 浩史
出願人/特許権者： 新明和工業株式会社 ,  滝川 浩史
代理人 (2件)： 角田 嘉宏 ,  古川 安航
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-349474
公開番号（公開出願番号）：特開2004-183021
出願日： 2002年12月02日
公開日（公表日）： 2004年07月02日
要約：

【課題】成膜レートの向上及び成膜面積の増加が図られた成膜装置及び成膜方法を提供する。【解決手段】成膜装置は、複数のアーク放電電極対2を含むアーク蒸発源1と、該アーク蒸発源1で得られた蒸発粒子の輸送系たるプラズマダクト3と、該プラズマダクト3を屈曲させて構成される蒸発粒子分離部4と、該分離部4で分離された荷電粒子を均一に混合する粒子混合部5と、該混合された荷電粒子を拡散させる粒子拡散部6と、該荷電粒子のうちのイオン化粒子を、基材ホルダ8に配置された基材9の表面に堆積させて成膜する成膜室7とから構成される。プラズマダクト3、蒸発粒子分離部4、粒子混合部5、粒子拡散部6は、それぞれ磁界発生装置を含み、磁界を利用してそれぞれ機能する。【選択図】 図3

請求項（抜粋）：

陽極と陰極とからなる電極対を複数対含み、各前記電極対の陽極と陰極との間でアーク放電を行うことにより膜形成材料を蒸発させて、イオン化した膜形成材料粒子であるイオン化粒子を少なくとも発生させるアーク蒸発源と、 前記アーク蒸発源の各前記電極対で発生した前記イオン化粒子を、前記アーク蒸発源から、基材が配置される成膜室に輸送する輸送手段と、 前記輸送の際に、各前記電極対で発生した前記イオン化粒子を混合する混合手段と、 前記混合されたイオン化粒子を拡散して前記基材へ堆積させて膜を形成する拡散手段とを備えたことを特徴とする成膜装置。

IPC (2件)：

C23C14/32 ,  H01L21/285

FI (2件)：

C23C14/32 C ,  H01L21/285 P

Fターム (5件)：

4K029CA03 ,  4K029DD06 ,  4M104BB05 ,  4M104BB18 ,  4M104DD36

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 強化されたマクロ粒子フィルタおよび陰極アーク源
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2000-518404   出願人：フィルプラスヴァキュームテクノロジーピーティーイー.リミテッド
• プラズマ加工法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-182158   出願人：伊藤光学工業株式会社, 滝川浩史
• 特開平1-312067
  
• 多層膜作製方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-084588   出願人：日本航空電子工業株式会社