特許
J-GLOBAL ID：200903046072344346

真空処理装置用の被処理体温度検出装置、及び該被処理体温度検出装置を備える真空処理装置

発明者：
小田桐 正弥

小田桐 正弥 について

, 
根津 崇明

根津 崇明 について

, 
吉田 裕一

吉田 裕一 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 渡部 敏彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-033622
公開番号（公開出願番号）：特開2003-234330
出願日： 2002年02月12日
公開日（公表日）： 2003年08月22日
要約：
【要約】【課題】 エッチング処理工程中の被処理体の温度を正確に測定することができる真空処理装置用の被処理体温度検出装置、及び該被処理体温度検出装置を備える真空処理装置を提供する。【解決手段】 真空容器室100は、被処理体Wの下部に位置するように配設され、被処理体Wを吸着し且つ温度モニタ200を内蔵するチャック101と、チャック101を載置するサセプタ102と、サセプタ102内部に構成される冷媒用通路103とを備え、温度モニタ200は、チャック101の表面101aより進退自在に突出した円筒状体のプローブ202と、プローブ202の内部空間102c側に形成された蛍光剤層300と、プローブ202を被処理体Wに向けて付勢するバネ203と、蛍光剤層300と対向するように配設されると共にチャック101に固定された光ファイバ204とを備える。
請求項（抜粋）：
被処理体を処理する真空処理装置に設けられ、前記被処理体の温度を検出する真空処理装置用の被処理体温度検出装置において、前記被処理体から熱を受容する接触子と、該接触子を前記被処理体に向けて付勢する付勢手段と、前記受容された熱に応じて光を放射する発光剤層と、前記放射された光を受光すべく静止した受光手段とを備えることを特徴とする被処理体温度検出装置。
Fターム (6件)：
5F004BA19 ,  5F004BB18 ,  5F004BB25 ,  5F004BD03 ,  5F004CB09 ,  5F004CB12
引用特許：
出願人引用 (4件)
全件表示
審査官引用 (4件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM