特許

J-GLOBAL ID：200903046138827963

光吸収剤及び化学増幅ポジ型レジスト材料

発明者： 永田 岳志 ,  渡辺 淳 ,  畠山 潤 ,  名倉 茂広 ,  石原 俊信
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (1件)： 小島 隆司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-293343
公開番号（公開出願番号）：特開平10-121029
出願日： 1996年10月15日
公開日（公表日）： 1998年05月12日
要約：

【要約】【課題】 遠紫外線、電子線、X線などの高エネルギー線に対して高い感度を有し、アルカリ水溶液で現像することによりパターン形成できる、微細加工技術に適した化学増幅ポジ型レジスト材料の成分として好適な三環式芳香族骨格を有するカルボン酸誘導体を含有する光吸収剤及びこれを配合した化学増幅ポジ型レジスト材料を得る。【解決手段】 下記一般式(1)又は(2)で示される三環式芳香族骨格を有するカルボン酸誘導体からなる光吸収剤及びこれを配合した化学増幅ポジ型レジスト材料。【化1】(R1、R2、R3はH、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、アルケニル基又はアリール基、R4はそれぞれOを含んでいてもよい2価の脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基又は酸素原子、R5は酸不安定基、pは0又は1、k、h、mは0〜9、nは1〜10、k+h+m+n≦10を満足する。)

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)又は(2)で示される三環式芳香族骨格を有するカルボン酸誘導体からなることを特徴とする光吸収剤。【化1】(式中、R1、R2、R3はそれぞれ独立に水素原子、直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、直鎖状もしくは分岐状のアルコキシ基、直鎖状もしくは分岐状のアルコキシアルキル基、直鎖状もしくは分岐状のアルケニル基又はアリール基である。R4は酸素原子を含んでいてもよい置換もしくは非置換の脂肪族炭化水素基、酸素原子を含んでいてもよい置換もしくは非置換の脂環式炭化水素基、酸素原子を含んでいてもよい置換もしくは非置換の芳香族炭化水素基又は酸素原子である。R5は酸不安定基である。pは0又は1である。k、h、mはそれぞれ0〜9の整数、nは1〜10の整数で、k+h+m+n≦10を満足する。)

IPC (6件)：

C09K 3/00 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 506 ,  G03F 7/039 501 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027

FI (6件)：

C09K 3/00 U ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 506 ,  G03F 7/039 501 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R

引用特許：

審査官引用 (5件)

• レジスト組成物及びこれを用いた微細パターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-249967   出願人：松下電器産業株式会社, 和光純薬工業株式会社
• 感光性材料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-185046   出願人：株式会社東芝
• ポジ型感光性アニオン電着塗料樹脂組成物、ポジ型感光性アニオン電着塗料、電着塗装浴、電着塗装法及びプリント回路板の製造法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-313890   出願人：日立化成工業株式会社
• アルカリ現像用レジスト
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-213571   出願人：株式会社東芝
• アルカリ現像用レジスト
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-056610   出願人：株式会社東芝