特許

J-GLOBAL ID：200903046204024699

ポジ型感光性組成物

発明者： 青合 利明 ,  佐藤 健一郎 ,  丹 史郎
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 萩野 平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-046000
公開番号（公開出願番号）：特開平10-239847
出願日： 1997年02月28日
公開日（公表日）： 1998年09月11日
要約：

【要約】【課題】 250nm以下、特に220nm以下の波長の露光光源の使用に好適であり、具体的には250nm以下、特に220nm以下の波長の露光光源の使用時に、良好な感度、解像度を与え、更に十分な耐ドライエッチング性を有し、且つ溶剤溶解性が良好なポジ型感光性組成物を提供する。【手段】 活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び特定の構造のアダマンチル基を有する繰り返し構造単位の少なくとも一つと、酸の作用により分解してアルカリ現像液中での溶解性を増大させる基の少なくとも一つを有する樹脂を含有するポジ型感光性組成物。

請求項（抜粋）：

(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び(B)下記一般式(I)、(II)又は(III)で表されるアダマンチル基を有する繰り返し構造単位の少なくとも一つと、酸の作用により分解してアルカリ現像液中での溶解性を増大させる基の少なくとも一つを有する樹脂を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。【化1】式(I)〜(III)中、R1 、R2 、R5 、R8 、R9 は、同じでも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基又はハロアルキル基を表す。R4 、R7 、R10は、同じでも異なってもよく、ハロゲン原子、シアノ基、置換基を有していても良い、アルキル基、アルケニル基もしくはアルキニル基、又は-CO-O-R11基を表す。R3 、R6 、R11は、同じでも異なってもよく、水素原子、置換基を有していても良い、アルキル基、単環あるいは多環のシクロアルキル基もしくはアルケニル基、又は酸の作用により分解してアルカリ現像液中での溶解性を増大させる基を表す。X1 〜X5 は、同じでも異なってもよく、単結合、2価のアルキレン基、シクロアルキレン基、-O-、-S-、又は-N(R12)-R13-基を表す。R12は水素原子、アルキル基、単環あるいは多環のシクロアルキル基又はアルケニル基を表す。R13は単結合あるいは、エーテル基、エステル基、アミド基、ウレタン基、ウレイド基を有しても良い、2価のアルキレン基、シクロアルキレン基又はアルケニレン基を表す。l、m、nは、同じでも異なってもよく、0又は1〜3の整数を示す。l、m、nが2以上の場合は、各複数個のR4 、R7 、R10は同一でも異なっても良い。

IPC (3件)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/30 502 R

引用特許：

審査官引用 (4件)

• レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-202343   出願人：富士通株式会社
• レジスト材料及びレジストパターンの形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-106214   出願人：富士通株式会社
• 遠紫外線露光用フォトレジスト組成物およびその使用方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-128606   出願人：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
• アルカリ現像用レジスト
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-213571   出願人：株式会社東芝