露光装置およびデバイス製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：阪本善朗
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-140558
公開番号（公開出願番号）：特開平11-026379
出願日： 1998年05月07日
公開日（公表日）： 1999年01月29日
要約：

【要約】【課題】露光光の露光画角を確定するためのアパーチャブレードの位置決め精度を向上させる。【解決手段】マスクM1 のパターンをウエハW1 に投影する露光光の露光画角を、4枚のアパーチャブレード11からなる可変アパーチャ10によって確定するに際して、ウエハステージ1の側縁に設けられた一対の受光センサ14に露光光を投光し、アパーチャブレード11を前進させて露光光が遮られたときの受光センサ14の受光量の低下によって、アパーチャブレード11のX軸方向とωZ方向(回転角度)の位置を検出する。圧電素子12bによってアパーチャブレード11の回転角度を調節することで、アパーチャブレード11の位置決め精度を向上させる。

請求項（抜粋）：

露光光の露光画角を確定するためのアパーチャブレードと、該アパーチャブレードを前記露光光の光軸に向かって進退させる第1の駆動手段と、前記アパーチャブレードを前記光軸に平行な所定の軸のまわりに回転させる第2の駆動手段と、前記露光光によって露光される基板を保持する基板保持手段を有することを特徴とする露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521

FI (3件)：

H01L 21/30 531 A , G03F 7/20 521 , H01L 21/30 531 J

引用特許：

審査官引用 (10件)

X線マスクと該マスクの製造方法と製造装置、ならびに該マスクを用いたX線露光方法と露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-127448 出願人：キヤノン株式会社
特開平2-155224
特開昭61-051826

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