特許

J-GLOBAL ID：200903046284189219

感光性組成物の設計方法およびリソグラフィ方法

発明者： 吉澤 正樹
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 船橋 國則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-089063
公開番号（公開出願番号）：特開2002-287360
出願日： 2001年03月27日
公開日（公表日）： 2002年10月03日
要約：

【要約】【課題】 高感度でありながらも解像度の良好な感光性組成物を得ることが可能な感光性組成物の設計方法を提供する。【解決手段】 酸発生剤を含有する化学増幅型の感光性組成物の設計方法であって、感光性組成物に要求される感度に基づいて、当該感光性組成物に対するパターン露光に際しての当該感光性組成物の露光部分における露光粒子間の平均距離またはパターン露光によって生じる酸間の平均距離を算出し、前記パターン露光によって前記酸発生剤から発生する酸の拡散長が、算出された平均距離よりも大きくなるように感光性組成物の組成を設定することを特徴としている。

請求項（抜粋）：

酸発生剤を含有する化学増幅型の感光性組成物の設計方法であって、感光性組成物に要求される感度に基づいて、当該感光性組成物に対するパターン露光に際しての当該感光性組成物の露光部分における露光粒子間の平均距離を算出し、前記パターン露光によって前記酸発生剤から発生する酸の拡散長が、前記露光粒子間の平均距離よりも大きくなるように当該感光性組成物の組成を設定することを特徴とする感光性組成物の設計方法。

IPC (4件)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/038 601 ,  G03F 7/26 501 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/038 601 ,  G03F 7/26 501 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (18件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BJ10 ,  2H025FA01 ,  2H025FA12 ,  2H096AA25 ,  2H096BA01 ,  2H096BA09 ,  2H096DA01 ,  2H096FA01

引用特許：

審査官引用 (4件)

• レジスト材料、レジストパターンおよび製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-040301   出願人：日本電気株式会社
• レジストパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-021400   出願人：日本電気株式会社
• リソグラフィ工程のシミュレーション方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-360769   出願人：現代電子産業株式会社
• パターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-203903   出願人：株式会社東芝