特許
J-GLOBAL ID：200903046344150236

洗浄剤組成物、洗浄方法及びその用途

発明者：
雨宮 正博

雨宮 正博 について

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齋藤 諭

齋藤 諭 について

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矢野 勝治

矢野 勝治 について

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松木 邦夫

松木 邦夫 について


出願人/特許権者：
昭和電工株式会社

昭和電工株式会社 について


代理人 (1件)： 柿沼 伸司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-250540
公開番号（公開出願番号）：特開2001-316691
出願日： 2000年08月22日
公開日（公表日）： 2001年11月16日
要約：
【要約】【課題】 半導体ウェーハあるいはウェーハ製造に使用される精密加工された種々のガラス、セラミック製器具等の表面汚染に対して優れた洗浄力を有する新しい洗浄剤組成物、ウェーハの洗浄方法、半導体ウェーハ及び半導体ウェーハの製造方法を提供する。【解決手段】 特定のフッ素系陰イオン性界面活性剤と、第4級アンモニウム水酸化物及び/またはアルカノールアミンを含有する洗浄剤組成物を用いて半導体ウェーハを洗浄する。
請求項（抜粋）：
フッ素系陰イオン性界面活性剤0.0001〜5質量%と、第4級アンモニウム水酸化物0.001〜30質量%及び/またはアルカノールアミン0.01〜20質量%を含有することを特徴とする洗浄剤組成物。
IPC (13件)：
C11D 1/02 ,  B08B 1/04 ,  B08B 3/08 ,  B08B 7/04 ,  C11D 1/04 ,  C11D 1/66 ,  C11D 1/72 ,  C11D 1/74 ,  C11D 3/26 ,  C11D 3/30 ,  C11D 3/39 ,  C11D 10/02 ,  H01L 21/304 647
FI (13件)：
C11D 1/02 ,  B08B 1/04 ,  B08B 3/08 Z ,  B08B 7/04 A ,  C11D 1/04 ,  C11D 1/66 ,  C11D 1/72 ,  C11D 1/74 ,  C11D 3/26 ,  C11D 3/30 ,  C11D 3/39 ,  C11D 10/02 ,  H01L 21/304 647 A
Fターム (33件)：
3B116AA03 ,  3B116AB01 ,  3B116BA01 ,  3B116BA12 ,  3B116BB02 ,  3B116BB82 ,  3B116CC01 ,  3B116CC03 ,  3B116CC05 ,  3B201AA03 ,  3B201AB01 ,  3B201BA01 ,  3B201BA12 ,  3B201BB02 ,  3B201BB82 ,  3B201BB92 ,  3B201CB11 ,  3B201CC01 ,  3B201CC11 ,  3B201CC21 ,  4H003AA02 ,  4H003AB03 ,  4H003AB14 ,  4H003AC08 ,  4H003AC11 ,  4H003AC12 ,  4H003DA05 ,  4H003DA15 ,  4H003EA23 ,  4H003EB14 ,  4H003EB19 ,  4H003EE04 ,  4H003FA21
引用特許：
出願人引用 (10件)
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審査官引用 (10件)
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