非鉄金属洗浄用洗浄液組成物

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：成瀬勝夫 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-290016
公開番号（公開出願番号）：特開2001-107098
出願日： 1999年10月12日
公開日（公表日）： 2001年04月17日
要約：

【要約】【課題】例えば磁気ディスク基板、超精密金属ミラー、液晶ディスプレイ基板、半導体基板等のように高度の清浄度が要求され、しかも、表面にアルミニウム、銅等の金属やこれらの金属の合金等の非鉄金属が存在する被洗浄物を洗浄するのに適した非鉄金属洗浄用洗浄液組成物を提供する。【解決手段】水酸化第四級アンモニウム水溶液に、珪酸若しくはアルキル珪酸の第四アンモニウム塩と、防蝕助剤と、アルカノールアミンと、界面活性剤とを添加してなる実質的に金属イオン及び陰イオンの不純物を含まない非鉄金属洗浄用洗浄液組成物である。

請求項（抜粋）：

水酸化第四級アンモニウム水溶液に、珪酸若しくはアルキル珪酸の第四アンモニウム塩と、防蝕助剤と、アルカノールアミンと、界面活性剤とを添加してなる実質的に金属イオン及び陰イオンの不純物を含まない非鉄金属洗浄用洗浄液組成物。

IPC (5件)：

C11D 17/08 , C11D 1/62 , C11D 3/08 , C11D 3/30 , H01L 21/304 647

FI (5件)：

C11D 17/08 , C11D 1/62 , C11D 3/08 , C11D 3/30 , H01L 21/304 647 A

Fターム (14件)：

4H003AB27 , 4H003AB46 , 4H003AC11 , 4H003AC23 , 4H003BA12 , 4H003DA09 , 4H003DA15 , 4H003EA15 , 4H003EB03 , 4H003EB14 , 4H003EB19 , 4H003EB20 , 4H003ED02 , 4H003FA15

引用特許：

出願人引用 (10件)

レジスト除去用洗浄液及びそれを用いた電子部品製造用基材の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-124835 出願人：東京応化工業株式会社
金属汚染ウエハ基板の平滑性維持洗浄
公報種別：公表公報出願番号：特願平10-518417 出願人：マリンクロッド・ベイカー・インコーポレイテッド
フォトレジスト剥離剤
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-173475 出願人：ニチゴー・モートン株式会社

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