特許
J-GLOBAL ID：200903046759956147

リソグラフィ装置及びデバイス製造方法

発明者：
ダーク - ヤン バイフート

ダーク - ヤン バイフート について


出願人/特許権者：
エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.

エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. について


代理人 (4件)： 浅村 皓 ,  浅村 肇 ,  吉田 裕 ,  森 徹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-161802
公開番号（公開出願番号）：特開2007-005789
出願日： 2006年06月12日
公開日（公表日）： 2007年01月11日
要約：
【課題】リソグラフィ装置及びデバイス製造方法を提供すること。【解決手段】リソグラフィ装置は、パターン形成された放射ビームを形成するべく放射ビームの断面にパターンを付与することができるパターン形成装置MAを支持するように構築された支持構造体MT、及び基板MAを保持するように構築された基板テーブルMTのうちの少なくともいずれか一方を備えており、支持構造体MT及び基板テーブルMTのうちの少なくともいずれか一方は、それぞれパターン形成装置MA及び基板MAと接触する接触表面を備えている。接触表面は、それぞれ支持構造体とパターン形成装置、及び基板テーブルと基板の少なくともいずれか一方の間の相互粘着を増加するための複数の副接触表面20を備えている。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
パターン形成された放射ビームを形成するべく放射ビームの断面にパターンを付与することができるパターン形成装置を支持するように構築された支持構造体、及び基板を保持するように構築された基板テーブルのうちの少なくともいずれか一方を備えたリソグラフィ装置であって、前記支持構造体及び基板テーブルのうちの少なくともいずれか一方が、それぞれ前記パターン形成装置及び前記基板と接触する接触表面を備え、前記接触表面が、それぞれ前記支持構造体とパターン形成装置、及び前記基板テーブルと基板の少なくともいずれか一方の間の相互粘着を増加するための複数の副接触表面を備えたリソグラフィ装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ,  H01L 21/683
FI (2件)：
H01L21/30 515F ,  H01L21/68 P
Fターム (8件)：
5F031CA05 ,  5F031HA08 ,  5F031HA13 ,  5F031MA27 ,  5F031PA30 ,  5F046BA05 ,  5F046CC09 ,  5F046CC10
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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