特許
J-GLOBAL ID:200903046854063826

表面処理方法および洗浄装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 佐藤 香
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-346817
公開番号(公開出願番号):特開2000-173978
出願日: 1998年12月07日
公開日(公表日): 2000年06月23日
要約:
【要約】【課題】 的確に側壁堆積物を除去する。【解決手段】被処理物20を剥離液15に浸す手段14を備えた洗浄装置10において、被処理物20に向けて剥離液15との共振周波数を超える発振数の超音波12aを発する超音波照射手段12を設ける。被処理物20の表面金属を揮発させるエッチング工程の後に行われる洗浄工程の際に、上記の洗浄装置10を使用し、被処理物20を剥離液15で洗うとともに、超音波12aも照射する。これにより、工程数を増やすこと無く且つ被処理物を損なうことも無く側壁堆積物を除去することができる。
請求項(抜粋):
被処理物に対しその表面の金属を揮発させるエッチング処理を施すエッチング工程と、その後に行われ前記被処理物を剥離液で洗う洗浄工程とを備えた表面処理方法において、前記洗浄工程が前記被処理物に向けた超音波の照射を伴って行われることを特徴とする表面処理方法。
Fターム (10件):
5F004AA09 ,  5F004AA16 ,  5F004BA01 ,  5F004BD01 ,  5F004DA04 ,  5F004DA23 ,  5F004DA26 ,  5F004DB00 ,  5F004EB02 ,  5F004FA08
引用特許:
審査官引用 (4件)
全件表示

前のページに戻る