特許
J-GLOBAL ID：200903046977498940
質量分析用イオン化基板及び質量分析装置
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-116525
公開番号（公開出願番号）：特開2006-329977
出願日： 2006年04月20日
公開日（公表日）： 2006年12月07日
要約：
【課題】レーザー脱離イオン化質量分析用試料基板において、レーザー光を照射されたときに、妨害ピークを発生させることなく、高感度かつ正確な測定ができ、試料作成にあたっては、試料を均一に塗布することができるソフトLDI-MS測定のための試料基板およびそれを用いる測定装置の提供。【解決手段】レーザー脱離イオン化質量分析に用いるレーザー光を吸収するイオン化媒体として、ドット構造を有する特定のイオン化素子を用いる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
レーザー脱離イオン化質量分析に供するための試料基板において、基板平滑表面上に物質を付着させて複数の凸状ドット構造体が分布する表面を形成し、該基板をレーザー脱離イオン化質量分析に用いるイオン化媒体として用いることを特徴とするレーザー脱離イオン化質量分析用試料基板。
IPC (4件)：
G01N 27/62
, G01N 27/64
, H01J 49/04
, H01J 49/10
G01N27/62 F
, G01N27/64 B
, H01J49/04
, H01J49/10
2G041CA01
, 2G041DA04
, 2G041FA10
, 2G041FA12
, 2G041GA06
, 2G041GA16
, 2G041JA02
, 2G041JA07
, 2G041KA01
, 5C038EF16
, 5C038GG07
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (1件)
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