特許
J-GLOBAL ID:200903047012951649
パルスレーザ熱処理装置とその制御方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件):
高橋 敬四郎
, 来山 幹雄
, 鵜飼 伸一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-293958
公開番号(公開出願番号):特開2008-112805
出願日: 2006年10月30日
公開日(公表日): 2008年05月15日
要約:
【課題】 熱処理精度を一定に保つことのできるレーザ熱処理装置、ないしレーザ熱処理装置の制御方法を提供する。【解決手段】 パルスレーザ熱処理装置は、励起源と、ポンピングチャンバと、パルス発振機構と、共振器構造とを有し、パルスレーザ光を発振するパルスレーザ発振器と、パルスレーザ発振器から出射するレーザビームの強度を減衰させるバリアブルアッテネータと、バリアブルアッテネータで強度を調整したレーザビームを熱処理対象物上に照射する光学系と、熱処理対象物を載置するステージと、パルスレーザ光の光強度の時間波形であるパルス波形を計測できる計測器と、計測器が計測したパルス波形のパルス幅に基づき、励起源の励起強度を制御することでパルス幅を調整でき、さらにバリアブルアッテネータの減衰率を制御できる制御装置と、を有する。【選択図】 図2
請求項(抜粋):
励起源と、ポンピングチャンバと、パルス発振機構と、共振器構造とを有し、パルスレーザ光を発振するパルスレーザ発振器と、
前記パルスレーザ発振器から出射するレーザビームの強度を減衰させるバリアブルアッテネータと、
前記バリアブルアッテネータで強度を調整したレーザビームを熱処理対象物上に照射する光学系と、
熱処理対象物を載置するステージと、
前記パルスレーザ光の光強度の時間波形であるパルス波形を計測できる第1の計測器と、
前記第1の計測器が計測したパルス波形のパルス幅に基づき、前記励起源の励起強度を制御することで前記パルス幅を調整でき、さらに前記バリアブルアッテネータの減衰率を制御できる制御装置と、
を有するパルスレーザ熱処理装置。
IPC (8件):
H01L 21/268
, H01L 21/265
, H01L 21/20
, B23K 26/00
, B23K 26/06
, H01S 3/131
, H01S 3/117
, H01S 3/109
FI (8件):
H01L21/268 T
, H01L21/265 602C
, H01L21/20
, B23K26/00 N
, B23K26/06 J
, H01S3/131
, H01S3/117
, H01S3/109
Fターム (27件):
4E068CA02
, 4E068CA03
, 4E068CB02
, 4E068CC01
, 4E068CD10
, 4E068CK01
, 4E068DA10
, 5F152AA17
, 5F152CC02
, 5F152CE05
, 5F152EE01
, 5F152EE03
, 5F152FF06
, 5F152FF07
, 5F152FG04
, 5F152FG29
, 5F172AE08
, 5F172AE09
, 5F172AF02
, 5F172EE13
, 5F172NN13
, 5F172NN26
, 5F172NP03
, 5F172NQ06
, 5F172NQ25
, 5F172NQ62
, 5F172NR03
引用特許: