特許
J-GLOBAL ID:200903047012951649

パルスレーザ熱処理装置とその制御方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 高橋 敬四郎 ,  来山 幹雄 ,  鵜飼 伸一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-293958
公開番号(公開出願番号):特開2008-112805
出願日: 2006年10月30日
公開日(公表日): 2008年05月15日
要約:
【課題】 熱処理精度を一定に保つことのできるレーザ熱処理装置、ないしレーザ熱処理装置の制御方法を提供する。【解決手段】 パルスレーザ熱処理装置は、励起源と、ポンピングチャンバと、パルス発振機構と、共振器構造とを有し、パルスレーザ光を発振するパルスレーザ発振器と、パルスレーザ発振器から出射するレーザビームの強度を減衰させるバリアブルアッテネータと、バリアブルアッテネータで強度を調整したレーザビームを熱処理対象物上に照射する光学系と、熱処理対象物を載置するステージと、パルスレーザ光の光強度の時間波形であるパルス波形を計測できる計測器と、計測器が計測したパルス波形のパルス幅に基づき、励起源の励起強度を制御することでパルス幅を調整でき、さらにバリアブルアッテネータの減衰率を制御できる制御装置と、を有する。【選択図】 図2
請求項(抜粋):
励起源と、ポンピングチャンバと、パルス発振機構と、共振器構造とを有し、パルスレーザ光を発振するパルスレーザ発振器と、 前記パルスレーザ発振器から出射するレーザビームの強度を減衰させるバリアブルアッテネータと、 前記バリアブルアッテネータで強度を調整したレーザビームを熱処理対象物上に照射する光学系と、 熱処理対象物を載置するステージと、 前記パルスレーザ光の光強度の時間波形であるパルス波形を計測できる第1の計測器と、 前記第1の計測器が計測したパルス波形のパルス幅に基づき、前記励起源の励起強度を制御することで前記パルス幅を調整でき、さらに前記バリアブルアッテネータの減衰率を制御できる制御装置と、 を有するパルスレーザ熱処理装置。
IPC (8件):
H01L 21/268 ,  H01L 21/265 ,  H01L 21/20 ,  B23K 26/00 ,  B23K 26/06 ,  H01S 3/131 ,  H01S 3/117 ,  H01S 3/109
FI (8件):
H01L21/268 T ,  H01L21/265 602C ,  H01L21/20 ,  B23K26/00 N ,  B23K26/06 J ,  H01S3/131 ,  H01S3/117 ,  H01S3/109
Fターム (27件):
4E068CA02 ,  4E068CA03 ,  4E068CB02 ,  4E068CC01 ,  4E068CD10 ,  4E068CK01 ,  4E068DA10 ,  5F152AA17 ,  5F152CC02 ,  5F152CE05 ,  5F152EE01 ,  5F152EE03 ,  5F152FF06 ,  5F152FF07 ,  5F152FG04 ,  5F152FG29 ,  5F172AE08 ,  5F172AE09 ,  5F172AF02 ,  5F172EE13 ,  5F172NN13 ,  5F172NN26 ,  5F172NP03 ,  5F172NQ06 ,  5F172NQ25 ,  5F172NQ62 ,  5F172NR03
引用特許:
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (6件)
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