中空カソードターゲットおよびその製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：青木篤 , 石田敬 , 古賀哲次 , 田崎豪治 , 西山雅也
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-545213
公開番号（公開出願番号）：特表2004-536958
出願日： 2001年11月20日
公開日（公表日）： 2004年12月09日
要約：

スパッタターゲットおよびスパッタターゲットの製造方法が記載される。その方法は、バルブ金属を含むスパッタ金属加工物を供給すること;圧延加工物を得るためにそのスパッタ金属加工物を横冷間圧延すること;ならびに形づくられた加工物を得るためにその圧延加工物を冷間加工すること、の段階を含む。スパッタターゲットは少なくとも側壁において実質的に均一な粒構造および/または組織を示す。

請求項（抜粋）：

少なくとも1つのバルブ金属を含むスパッタ金属加工物を供給すること;圧延加工物を得るためにそのスパッタ金属加工物を横冷間圧延すること;ならびに形づくられた加工物を得るためにその圧延加工物を冷間加工すること、の段階を含むスパッタターゲットの製造方法。

IPC (4件)：

C23C14/34 , B21B3/00 , C22F1/08 , C22F1/18

FI (7件)：

C23C14/34 B , B21B3/00 J , B21B3/00 K , B21B3/00 L , C22F1/08 S , C22F1/18 F , C22F1/18 G

Fターム (8件)：

4K029BA02 , 4K029BA16 , 4K029BA21 , 4K029CA05 , 4K029DC03 , 4K029DC04 , 4K029DC08 , 4K029DC13

引用特許：

審査官引用 (4件)

拡散接合されたスパッタリングターゲット組立体及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-154003 出願人：株式会社ジャパンエナジー
スパッタタ-ゲット
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-180773 出願人：株式会社東芝
スパッタリングターゲット及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-339497 出願人：三菱化成株式会社

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